AI芯片需求火爆，但造芯片的机器不会一夜之间跟上。ASML给出的时间表是：10到15年。

这家光刻机厂商明确表示，AI对芯片制造的影响不会立刻兑现，而是会在未来十到十五年间逐步展开。

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一项升级：更大的反射镜孔径

ASML计划中的一项升级，是在其极紫外光刻系统中采用更大的反射镜孔径。孔径变大，设备就能更精确地聚焦EUV光，从而支持更精细的图形化，以及未来更先进制程的制造需求。

换句话说，AI带来的算力饥渴，最终要落到这类硬件指标的缓慢爬坡上。设备端的每一次改进，都对应着制程往前挪动的一小步。

10到15年这个跨度，和外界对AI芯片产能的急切预期形成了明显落差。芯片制造的节奏，由光刻这类底层设备的迭代速度决定，而不是由需求端的热情决定。