国家知识产权局信息显示，研微（江苏）半导体科技有限公司申请一项名为“用于半导体镀膜装置的清洁方法和清洁系统”的专利，公开号CN122833551A，申请日期为2025年3月。

专利摘要显示，本发明公开了一种半导体镀膜装置的清洁方法和清洁系统，其中，镀膜装置包括工艺腔，其上设有进气口，用于通入工艺气体和清洁气体，且在工艺腔内设有加热托盘，用于承载半导体衬底，以在通入工艺气体后对衬底进行高温沉积工艺，该清洁方法包括：响应于工艺腔内的高温沉积工艺完成，判断工艺腔内的沉积温度是否小于或等于加热托盘的温度阈值；以及响应于沉积温度小于或等于温度阈值，向工艺腔内通入清洁气体，以基于沉积温度清洁工艺腔，其中，温度阈值基于加热托盘的材料确定。本发明能够提升腔室清洁的效率，从而提升产品产率，同时还能够避免腔内部件被清洁气体刻蚀所引起的颗粒污染。

天眼查资料显示，研微（江苏）半导体科技有限公司，成立于2022年，位于无锡市，是一家以从事通用设备制造业为主的企业。企业注册资本3899.1337万人民币。通过天眼查大数据分析，研微（江苏）半导体科技有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目12次，财产线索方面有商标信息10条，专利信息72条，此外企业还拥有行政许可10个。

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作者：情报员