栅极和沟道之间必须有一层绝缘。氧化硅薄到只剩几个原子时，电子会直接穿过去，管子关不死。高介电常数介质可以用更厚的一层，仍然给出同样的电容。电子要走的路更长，穿过去的机会变小。这一步换的是栅极下面那层绝缘，不是再把氧化硅磨得更薄。
常用的是铪的氧化物这一类。介电常数高，同样的电容允许更厚的物理厚度。厚度不够，电子还是穿。厚度太大，栅极离沟道远了，开关变钝。厚度按这一代沟道长度来定，不能沿用上一代氧化硅的目标。
铪的氧化物通常不直接铺在硅上就结束。硅和这层之间还留一层极薄的界面氧化。界面太厚，好处被这层薄氧化吃掉，等于又回到几个原子的氧化硅。界面太薄或断了，铪和硅直接碰上，界面上的缺陷变多，阈值会漂。两层要分开量，不能合成一个厚度。
覆盖要连续。顶面、侧面，尤其是角上，都不能断。角上偏薄，漏电就从角上走，顶上的厚度再合格也挡不住。平面上的大块膜和包在立起来的沟道上的膜，角的位置不一样。只剖平面大块，产品里的角会整组漏。
膜一旦结晶，晶界就变成一条条漏电路径。该保持均匀无定形的时候结晶了，厚度数字仍然合格，关断电流却升高。截面里能看见一粒一粒的颗粒。温度一高就容易结晶。温度窗口按这层的厚度来定，不能沿用长氧化硅的温度。
片内厚度要匀。边缘散热和气流不同，边缘常常偏薄，漏电先从边缘那一圈出来。只抽中心，边缘整圈要到电学才暴露。厚度图要把边缘放进去。中心进了带子、边缘出了带子，不能按中心放行。
界面上的电荷会让阈值漂移。同一只管子，电压往上扫和往下扫，阈值不一样，就是电荷被抓住又放开。这和厚度不够不是同一种毛病。厚度图合格、阈值却漂，先查界面那一层，不要先把铪层加厚。加厚只会让栅极离沟道更远，漂移还在。
角上的膜要单独看。顶上厚、转到角上突然变薄，是覆盖问题，不是整层都薄。截面要卡在角上，不要只卡在顶面的正中。顶面正中合格，角上已经挤成一条线，这片不能往下送。立着的沟道，三个面的角都要抽到。
后面的加热会让界面氧化继续变厚，也会让铪层结晶。当站把厚度和漏电做进带子，并不等于加热之后还在带子里。新增加的加热要先看界面有没有长厚、膜有没有出颗粒。当站合格、加热后漏电升高，多半是这两件，不是这层没长上。
金属栅贴在这层上面。高介电表面如果还有残留或一层氧化，金属和介质之间就夹着东西，阈值会整片偏。长膜之前的表面，和长完之后、放上金属之前的表面，要分开判。表面没处理好，加长长膜时间只会让厚的地方更厚。
密集图形和孤立图形吃料不一样。密集处侧面更薄，孤立的大块顶上更厚。只量孤立的大监测块，产品里最密的那一组角上会漏。放行剖最小间距的那一组。大块只用来看机台有没有漂。
针孔比角上变薄更小。平均厚度合格，膜上仍可以有一个洞，电子从洞里走。截面稍微偏一点就剖不着。漏电是少数点特别高，而不是整片慢慢升高，先找针孔，不要先改整层的目标厚度。
结晶和完整的膜要能在同一片截面里分清。完整的一段是均匀的一层，结晶的一段能看见颗粒和颗粒之间的界。只报一个平均厚度，看不出有没有结晶。抽查要把有没有颗粒写上，不能只写厚了还是薄了。
片内要分开看三件事：铪层的厚度，界面氧化的厚度，有没有结晶或针孔。铪层成环，先查气流和温度的中心边缘差。界面成扇，先查长界面那一步的时间。两项叠在一起，会有一个区域又漏电、阈值又漂。只加厚铪层，界面该厚的还是厚。
关断电流变大，不一定是这层太薄。沟道太短、角上断开、膜结晶，都会让关断电流变大。驱动电流变小，也不一定是这层太厚，接触和沟道本身也会。所以关断和开启要一起看。只看到关断变大就把膜加厚，结晶的晶界还在，漏电不会下去。
换原料或清腔之后，厚度和结晶都会跳。刚清完的前几片当陪片。壁上掉下来的渣落在栅极区，会挡住一小块，留下一个洞。按片数清理。清完不跑陪片，第一片正式片的漏电常常整片偏高。陪片的厚度不要写成正式片的目标。
缺口旁边的气流常常偏一截，界面氧化和铪层的厚度会在那里先出带子。只抽片子中心，缺口旁的一圈要到电学才暴露。抽样把缺口旁边的栅放进去。中心合格、缺口旁漏电，不能按中心放行。
监测用的大块平面膜，和产品里包在窄沟道上的膜，不是同一种覆盖。大块顶上很厚，不代表窄沟道的侧面和角也厚。放行用和产品最小图形同一套结构。大块的平均厚度不能拿来放行。
这层的厚度目标不能写成氧化硅那一代的厚度。氧化硅要尽量薄才有电容，这层要有足够的物理厚度才挡得住穿隧。两套目标混在一张卡上，要么漏电高，要么栅极离沟道太远。卡上要写明量的是哪一层。
等待时间也要管。长完界面到长铪层之间，硅表面会再长出一点氧化。等久了，界面比目标厚，高介电的好处被吃掉。两步之间的时间写在卡上。超时的片子先量界面，再决定还进不进。已经偏厚的界面，加长铪层时间补不回来。
同一片上横向和纵向的栅，角的朝向不同，侧面厚度会不一样。两个方向分开抽。只抽一个方向，另一个方向的漏电会整组偏出带子。换版图时如果把栅转了向，旧的抽样方向就不能再用。
量厚度时，界面和铪层的分界要在截面里看清。分界划高了，界面被算进铪层，会觉得铪层够厚、界面也够薄，其实界面已经超了。分界划低了，反过来。两层的带子要各有各的量法，不能用一个总厚度除一下就算完。
整条链路是：界面氧化薄且连续，上面的高介电层厚度进带子，角上没有被挤断，膜没有结晶，针孔不留，后面的热不把界面养厚。顶上那一层量着合格，角上已经成一条线，或者截面里已经看见颗粒，就不要把这片送去后面。两层的厚度必须分开报，合成一个总数不能放行。放行看的是角和界面，不是顶上的平均数。
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