中国晶圆厂近年集中采购浸没式 DUV 光刻机，已经攒下了一批关键设备。美国部分官员认为，这条供应通道还没关死，下一步应连设备、零件和维护一起收紧。

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被卡住的 EUV，撑起了 DUV

最先进的 EUV 光刻机无法卖到中国后，浸没式 DUV 成了国内先进制程扩产的重要设备。

它和 EUV 不是一个级别，但通过多重曝光等工艺配合，仍可用于生产 7 纳米级逻辑芯片，以及部分 AI 芯片所需的先进存储产品。华为昇腾等国产 AI 芯片的供应能力，也与这类设备和后续工艺能力密切相关。

343 台设备，先把家底攒起来

华盛顿智库 CTS 的一份研究估算，到 2026 年初，中国企业控制的晶圆厂已购入约 343 台浸没式 DUV 光刻机，其中约 270 台是 ASML 的 Twinscan NXT:1980i。

采购高峰出现在 2024 年和 2025 年。两年间，相关晶圆厂分别购入约 90 台和 89 台 NXT:1980i，累计投入超过 130 亿美元。

这也解释了 ASML 中国市场的高占比：2024 年，中国按发货地计算占其整机销售额的 41%；2025 年仍占 33%。

门槛抬高了，旧订单还在走

荷兰从 2023 年起要求更先进的 NXT:2000i 等浸没式设备申请出口许可，后续实际上很难进入中国。2024 年，NXT:1980i 也被纳入许可范围，但仍保留个案审批空间。

到 2026 年上半年，ASML 对中国的销售占比已明显回落：一季度为 19%，二季度降至 14%。此前积压订单的集中交付，也推高了 2024 年的数字。

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美国担心的，是设备能被“挪着用”

争议焦点不只在于还能不能买到新机器，还在于已卖出的设备如何使用。

主张进一步收紧的一派认为，即使设备最初用于成熟制程，也可能被调配到更先进的产线；一旦零部件、维护和软件支持继续畅通，已有设备就能持续服役。为此，他们希望把限制扩大到所有浸没式 DUV 设备，并覆盖维修和替换零件。

库存能顶一阵，长期差距看新增

短期内，全面停止新增出口未必马上改变产能，因为已有设备库存还在。但设备越复杂，寿命、维护和升级越重要，长期差距最终会落在“还能不能持续补新机、保旧机”上。

CTS 的理论测算称，若中国未来每年继续引进约 90 台 NXT:1980i，到 2035 年相关设备规模可支撑相当于每年 4.34 亿颗英伟达 H100 的 AI 芯片产出；若 2027 年起停止新增进口，这一理论上限将降至约 1.53 亿颗。这个数字建立在其他制造瓶颈同步被突破的前提上，更像是在说明设备入口对长期产能的杠杆。

光刻机这场拉锯，已经不只是“能不能买到一台机器”，而是在争夺未来十年先进芯片产能的天花板。