国家知识产权局信息显示，中山吉联光电科技有限公司申请一项名为“一种硫系玻璃表面DLC-Ge-DLC夹心结构耐候薄膜及其制备方法”的专利，公开号CN122853719A，申请日期为2026年7月。

专利摘要显示，本发明适用于光学薄膜技术领域，提供了一种硫系玻璃表面DLC‑Ge‑DLC夹心结构耐候薄膜及其制备方法，所述薄膜包括硫系玻璃基底层及依次设置的第一DLC膜层、Ge膜层和第二DLC膜层，Ge膜层与两层DLC膜层直接接触，形成夹心结构；Ge膜层厚度为15～40nm，所述第一DLC膜层厚度为200～600nm，第二DLC膜层厚度为600～1000nm，且两层DLC膜层厚度总和大于1100nm；硫系玻璃基底与第一DLC膜层之间还可设置Ge/ZnS交替增透膜系；本发明通过Ge膜层填充第一DLC膜层的针孔缺陷，使第二DLC膜层的缺陷随机分布，避免形成贯穿性缺陷通道，显著提高耐环境性能，可耐受盐雾1000h、湿热48h、摩擦400次等严苛测试，同时保持8000～12000nm波段平均反射率低于3.8%，适用于红外光学元件。

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作者：情报员