国家知识产权局信息显示，深圳市鑫德普科技有限公司申请一项名为“抛光层及其制备方法、抛光垫及应用”的专利，公开号CN122851464A，申请日期为2026年9月。

专利摘要显示，本发明公开了一种抛光层及其制备方法、抛光垫及应用，涉及抛光技术领域。本发明的抛光层包括聚氨酯预聚物和固化剂，所述抛光层的表层上嵌设有改性PLGA微球，且所述改性PLGA微球的一端突出所述抛光层设置，以形成微凸体，所述改性PLGA微球表面键合了二氧化硅。本发明的抛光垫包括依次层叠设置的抛光层、中间胶层、缓冲层、背胶层以及离型膜层，本发明提供的抛光垫具有打磨损失率低，抛光效果好的优点。

天眼查资料显示，深圳市鑫德普科技有限公司，成立于2007年，位于深圳市，是一家以从事批发业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市鑫德普科技有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目5次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息33条，此外企业还拥有行政许可8个。

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作者：情报员