在当前全球半导体供应链深度调整的背景下，俄罗斯本土的芯片制造设备研发迎来了一个关键节点。俄罗斯第一副总理丹尼斯·曼图罗夫在微电子论坛全体会议上公开宣布，俄白两国联合研制的130纳米工艺光刻机试验样机已经完成。
这一进展距离此前350纳米设备的推出仅过去几个月，显示出其在成熟制程设备本土化上正在加速推进。从技术和产业分布来看，130纳米和350纳米属于典型的成熟工艺节点。
根据国际市场公开数据与俄方官员在会上的援引，全球微电子产品中，有相当一部分比例依然依赖350纳米及更粗的工艺进行生产，这类芯片广泛应用于功率器件、传感器、汽车电子以及工业控制等领域，并不直接对标当前智能手机或高端显卡所依赖的数纳米先进制程。
对于面临外部技术禁运和供应链断裂风险的俄罗斯工业体系而言，稳定生产这类基础芯片，是保障工业母机、国防军工以及汽车制造正常运转的底盘。这台130纳米光刻机的落地并非孤立存在，其核心配套迎来了关键突破。
工业贸易部部长安东·阿利哈诺夫指出，该设备所使用的国产准分子激光器已经顺利通过试验。在光刻机系统中，光源直接决定了光刻分辨率和能做到的最小线宽。
由于准分子激光技术门槛极高，过去全球范围内仅有极少数国家具备独立生产能力，而俄罗斯此次完成国产激光器试验，为其整机在今年秋季启动验收并计划在年底前结束奠定了基础。
整个130纳米研制项目由泽列诺格勒纳米技术中心与白俄罗斯“平面”公司联合推进，相关研制投入达到57亿卢布，并计划在2027年正式投入量产供货。在设备实现从无到有的同时，本土制造企业的承接能力与产业链生态也在同步构建。
此前完成研发的350纳米光刻机已经进入商业化生产阶段，首批两台量产设备已签署供货合同，将分别交付给隶属于俄罗斯国家技术集团的“施瓦贝”控股旗下企业以及“元件”集团旗下的相关公司。
根据公开的技术参数，350纳米光刻机支持处理直径至200毫米的晶圆，其基础配置报价为3.92亿卢布，若包含加长维保和5年质保则为5.61亿卢布。相比同类进口设备，其价格具备一定优势。
为了配合整体微电子产业的闭环，泽列诺格勒的一座科技中心也已进入收尾阶段，未来将用于组织芯片生产必需的电子束光罩及相关化学品配套。尽管俄罗斯在光刻机整机、光源以及部分成熟节点上取得了实质性进展，但客观来看，其半导体产业链依然面临诸多严峻考验。
在先进制程和关键支撑工具方面，例如芯片设计不可或缺的EDA软件，全球市场长期被新思科技和铿腾电子等巨头主导，虽然俄方近年也在尝试自主EDA的研发，但距离实际商业化应用仍有很长的路要走。
此外，在光刻机极为核心的光学镜头、超精密运动工作台以及高端光刻胶等材料化学品领域，本土供应链的彻底自主化仍需要持续的资金与时间投入。为了进一步缩小与国际成熟水平的差距，俄方已经将更细的节点纳入规划。
阿利哈诺夫在会上透露，分辨率为90纳米的扫描式光刻机技术任务书已经拟定，目前正处于甄选具体承担单位的阶段。
从350纳米到130纳米，再到规划中的90纳米，俄罗斯半导体设备产业通过分阶段、按部就班的技术迭代，试图在极端外部压力下拼凑出一条相对完整的本土制造供应链。
这场由成熟工艺发起的突围，不仅关乎几台设备的落地，更是一场对国家工业基础韧性的长期测试。
俄罗斯主流媒体 CNews 相关产业报道
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