国家知识产权局信息显示，中微半导体设备（上海）股份有限公司申请一项名为“一种工艺腔室的清洁方法”的专利，公开号CN122856129A，申请日期为2025年3月。

专利摘要显示，本发明公开了一种工艺腔室的清洁方法。包含：提供一假晶圆置于反应腔中，假晶圆的表面预沉积一层粘附层；疏松处理步骤：通入第一处理气体，使反应腔内的微粒杂质变得疏松，至少部分发生脱落；粘附处理步骤：通过粘附层粘附脱落的微粒杂质；将粘附有微粒杂质的假晶圆从反应腔中取出。本发明通过采用第一处理气体促进附着在反应腔内壁上的微粒杂质发生疏松脱落和加强对脱落的微粒杂质的粘附处理，加快了反应腔内微粒杂质的清除效率；还通过引入第二处理气体使多次清洁后仍残留的顽固微粒杂质更致密，降低其剥落风险。

天眼查资料显示，中微半导体设备（上海）股份有限公司，成立于2004年，位于上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本95784.2348万人民币。通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了31家企业，参与招投标项目92次，财产线索方面有商标信息85条，专利信息1753条，此外企业还拥有行政许可89个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

本文源自：市场资讯

作者：情报员