国家知识产权局信息显示,荣芯半导体(宁波)有限公司申请一项名为“确定光学临近修正搜索范围的方法和光学临近修正方法”的专利,公开号CN122860832A,申请日期为2026年9月。
专利摘要显示,一种确定光学临近修正搜索范围的方法,包括:基于包括测试图形阵列的测试掩膜,在目标光刻条件下完成晶圆工艺流程,测试图形阵列包括第一测试单元和多个第二测试单元,第一测试单元包括目标图形,每个第二测试单元包括目标图形和分布于目标图形周围的辅助图形,不同第二测试单元包括的辅助图形相同、但辅助图形与目标图形之间的临近距离不同;测量各目标图形的实际关键尺寸,并以第一测试单元的目标图形的实际关键尺寸为孤立基准关键尺寸,基于第二测试单元的各目标图形的实际关键尺寸与孤立基准关键尺寸之间的差异,确定与不同的临近距离各自对应的关键尺寸变化量;基于与不同的临近距离各自对应的关键尺寸变化量,确定光学临近修正的搜索范围。
天眼查资料显示,荣芯半导体(宁波)有限公司,成立于2021年,位于宁波市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本41452.2292万人民币。通过天眼查大数据分析,荣芯半导体(宁波)有限公司共对外投资了6家企业,财产线索方面有商标信息17条,专利信息137条。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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