国家知识产权局信息显示，拓荆科技（上海）有限公司申请一项名为“一种半导体设备的散热装置及半导体设备”的专利，公开号CN122872041A，申请日期为2026年9月。

专利摘要显示，本发明提供了一种半导体设备的散热装置及一种半导体设备。该半导体设备的散热装置包括：液体流道，用于通入冷却液；以及扰流片，连接所述液体流道的内壁，其中，所述扰流片随所述冷却液温度降低而发生侧向弯曲，并随所述冷却液温度升高而伸展。由此，本发明能够平衡液体流道各处温度分布，以避免水冷部件形变及密封泄漏等问题，从而大幅缩短设备维护周期与使用寿命，提升半导体设备的精度及稳定性。

天眼查资料显示，拓荆科技（上海）有限公司，成立于2020年，位于上海市，是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本283508.77万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆科技（上海）有限公司参与招投标项目55次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息457条，此外企业还拥有行政许可45个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

本文源自：市场资讯

作者：情报员