有的片子在表面硅和底下的衬底之间夹着一层埋住的氧化。表面这一层硅用来做管子，底下的衬底被这层氧化隔开，两边不再连成一块。隔开了，底下的衬底就不会把表面管子的电位拖乱。这一步管的是这两层硅之间的那层氧化。不是把栅极下面长到几个原子的那层，也不是盖在做好的电路表面上的那一层。
埋氧要连续，不能有针孔。有一个针孔，表面硅就从针孔和衬底碰上，这一小块等于没有隔开。厚度要够，太薄，针孔和局部击穿都会出现。太厚，表面硅的散热和后面的刻蚀深度都会变，而且片子更容易翘。厚度按这一代表面硅的要求来定。
完整的截面是三层：上面薄薄的硅，中间连续的氧化，下面厚的衬底。氧化没有断口，上下两层硅没有在任何地方贴上。只量表面硅的厚度，中间这层有没有洞看不出来。
针孔比整层变薄更麻烦。平均厚度合格，仍可以有一个洞。洞在截面里很小，稍偏就剖不着。电学上是个别管子和衬底连在一起，不是整片一起变。先找洞，不要先把整层加厚。加厚补不了已经存在的洞。
表面硅的厚度和埋氧的厚度要分开量。表面硅太薄，管子没有足够的硅。埋氧太薄，隔开不够。两项叠在同一片上，会又漏到底下、表面硅又不够。只报一个总厚度，分不出是哪一层出了问题。
贴合或长成这层氧化时，颗粒夹在中间会把氧化顶开，颗粒周围氧化变薄，颗粒本身就是一个缺陷核。进这一步之前的表面要干净。颗粒地图若和后来的针孔地图重合，先查来片，不要先改氧化的时间。
边缘的氧化常常薄一圈，或者表面硅在边缘先被吃掉。只抽中心，边缘整圈没有隔开，要到电学才暴露。两张厚度图都要把边缘放进去。中心进了带子、边缘的氧化已经薄成一条线，不能按中心放行。
针孔在截面上是氧化中间缺了一个小口，上面的硅和下面的硅在这个口上连上，或者只隔着极薄的一层。周围的氧化还可以很厚。所以一个合格的平均厚度不能否定这个口。抽查要写有没有口，不要只写厚了还是薄了。
针孔和整层偏薄要分开。整层偏薄是氧化到处都瘦，地图成片或成环。针孔是个别的点，旁边仍厚。成环先查温度和气流。个别点先查颗粒和表面。用加厚去治针孔，环会更厚，点还在。
表面硅若厚薄不匀，厚的地方管子做得成，薄的地方硅被后面的步骤用完，埋氧露出来，这一区没有沟道。这和埋氧被打穿不同。硅用完是上面的硅没了。打穿是中间的氧化没了。截面要看缺的是上面还是中间。
片子会因为这层氧化的应力而翘。翘大了，后面的曝光对不齐，边缘的贴合也会裂。弯曲要单独量。弯曲是整片的弧，针孔是局部的点。只报弯曲，针孔仍然会漏过去。
一边变薄的埋氧，截面上中间这层从左到右越来越瘦，瘦的一侧上下两层硅几乎要贴上，另一侧还是正常的厚度。这种斜的薄不是一个圆点。圆点是针孔。斜着变薄多半是温度或贴合压力一边高一边低。
片内分开看三件事：埋氧连续不连续，表面硅还在不在，片子翘不翘。不连续，多半是针孔或颗粒。表面硅没了，多半是上面被吃薄。翘，多半是氧化太厚或应力太高。只加厚氧化，翘会更厉害，针孔也不一定消失。
缺口旁边的气流和贴合压力常常偏一截，氧化和表面硅会在那里先出带子。抽样把缺口旁边放进去。只抽片子中心，缺口旁的一圈要到电学才暴露。中心合格、缺口旁两层硅贴上，不能按中心放行。
后面的热步骤会让埋氧略为变厚，也会让表面硅里的缺陷往界面跑。当站厚度合格，不等于加热之后针孔还被封着。新增的热要再看有没有新的连通点。当站没洞、加热后个别管子连到衬底，先查热，不要先加厚当站的目标。
换来片或清腔之后，针孔和厚度都会跳。刚清完的前几片当陪片。壁上掉下来的渣会变成新的针孔。按片数清理。清完不跑陪片，第一片正式片的连通点会整片偏多。陪片的厚度不要写成正式片的目标。
表面硅上的管子和埋氧的针孔要能对上位置。管子在针孔上，电学是这一只和衬底短路，旁边的正常。位置对不上，就不是这层氧化的洞，要到管子自己的结构里去查。先把地图叠上，再决定改哪一步。
同一片上不同厚度目标的区域，不能用一个平均数放行。厚区合格，不代表薄区还有隔开。放行按产品里最薄的那一档埋氧来剖。厚区只用来看机台有没有整片漂。
横向和纵向若应力不一样，翘的方向和裂的方向会不同。两个方向都量弯曲，也抽边缘的截面。只量一个方向，另一个方向的贴上会漏掉。
整条链路是：中间的氧化连续且厚度进带子，上面的硅还在，上下两层硅没有在针孔或薄点贴上，片子没有翘到对不齐。平均厚度合格，截面里已经有一个连通的口，或者一边已经薄成一条线，就不要把这片送去后面做管子。氧化和表面硅的厚度必须分开报。
大块监测区的氧化很完整，不代表产品最小结构旁边的氧化也完整。图形边缘的应力会把氧化拉开。放行要剖有图形的地方。大块只看机台。大块合格、图形边上两层硅贴上，不能按大块放行。
表面硅的晶格若在埋氧界面上乱了，管子会在界面处漏，氧化本身还可以是连续的。这和针孔不是同一件事。针孔是上下硅连上。界面乱是氧化还在，电学却差。截面要看界面齐不齐，不要只看有没有洞。
贴合之后若立刻量厚度，应力还没松开，读数会偏。等片子回到室温再量弯曲和厚度。刚出腔的数字不要写成放行结果。室温下边缘已经贴上，出腔时的中心厚度不能替它说话。
同一炉里不同槽位，氧化厚度会差一截。某个槽位连续出针孔或连续偏薄，先查那个位置的温度和压力，不要把整炉的时间一起加长。时间一加，已经偏厚的槽位会更翘。
针孔处若只剩一层极薄的皮，电学上已经和衬底连上，截面稍微厚一点又像还隔着。这种皮不能当成已经隔开。上下两层硅在这个点导通了，周围的氧化再厚也不能把这片放行。导通的点要单独标出。
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