国家知识产权局信息显示，理想万里晖半导体设备（上海）股份有限公司取得一项名为“腔内加热器以及真空设备腔”的专利，授权公告号CN224832849U，申请日期为2025年10月。

专利摘要显示，本实用新型提供腔内加热器以及真空设备腔。腔内加热器包括基板、多个内区加热棒以及多个外区加热棒，所述多个内区加热棒设置在基板第一面中部区域的多个内区凹槽中，并通过设置在基板两侧的供电模块供电；所述多个外区加热棒设置在基板第一面边缘区域的多个外区凹槽中，并通过所述供电模块供电。本实用新型能降低设备维修或维护的难度，并降低制造成本、维修或维护成本。

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作者：情报员