国家知识产权局信息显示，光驰科技（上海）有限公司取得一项名为“一种真空镀膜装置”的专利，授权公告号CN224832821U，申请日期为2025年10月。

专利摘要显示，本实用新型属于真空镀膜技术领域，公开了一种真空镀膜装置。该真空镀膜装置包括镀膜腔室和等离子体发生组件。其中，镀膜腔室用于容纳工件；等离子体发生组件包括放电电极、第一真空源以及安装腔室，放电电极置于安装腔室内，安装腔室至少部分置于镀膜腔室内或安装腔室与镀膜腔室相邻设置；第一真空源的开口开设于安装腔室的室壁，且第一真空源用于对安装腔室抽真空，镀膜腔室与安装腔室分别独立抽真空。在实用新型中，提高了排气效率，及时排走从镀膜腔室进入安装腔室的工艺气体，使安装腔室内维持在合适和稳定的真空度，保证镀膜腔室中的放电效果，降低安装腔室的放电风险，同时提升能源利用效率。

天眼查资料显示，光驰科技（上海）有限公司，成立于2000年，位于上海市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本80000万日元。通过天眼查大数据分析，光驰科技（上海）有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目43次，财产线索方面有商标信息19条，专利信息398条，此外企业还拥有行政许可49个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

本文源自：市场资讯

作者：情报员