国家知识产权局信息显示，上海新傲芯翼科技有限公司申请一项名为“去除晶圆表面厚氧化层的方法及晶圆”的专利，公开号CN122892542A，申请日期为2026年7月。

专利摘要显示，本发明提供一种去除硅片表面厚氧化层的方法及晶圆，所述方法包括：对具有厚氧化层的硅片进行预清洗；利用SC‑1溶液进行清洗；采用第一酸性溶液进行第一次氧化层去除，以去除部分厚度的所述厚氧化层；利用SC‑2溶液进行清洗；利用第二酸性溶液进行第二次氧化层去除，以去除剩余的所述厚氧化层；以及进行后续清洗及干燥处理。本发明通过两次RCA预处理分层去除厚氧化层表面及内部的杂质，搭配分步酸性腐蚀，能够实现厚氧化层的彻底去除，同时有效控制硅表面粗糙度。利用本发明提供的所述方法处理得到的晶圆，具有氧化层去除率高、无颗粒残留、表面粗糙度低、顶层硅厚度均匀性好等优点。

天眼查资料显示，上海新傲芯翼科技有限公司，成立于2022年，位于上海市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本80000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海新傲芯翼科技有限公司参与招投标项目34次，财产线索方面有商标信息9条，专利信息79条，此外企业还拥有行政许可5个。

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作者：情报员