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根据《中国经济时报》10月11日报道,首批“双流造”国产光刻机将在11月初,从成都双流集中发往全国,今年订单金额已经突破1亿元,明年产能预计达到300台。

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不只是上海微电子,成都也在国产光刻机错位突围

这是国产光刻机“错位突围”的标志性一步。为什么?因为大家都盯着最顶端的先进制程光刻机较劲,但其实一个个被海外垄断多年的细分赛道,正悄悄被我们逐个攻破。很多人对光刻机的认知,还停留在制程越先进越核心的刻板印象里。但是半导体和光电子产业的光刻设备需求,本来就是分层的。

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报道指出,微米级接近式光刻机,就是光显示、光芯片、MEMS传感器、先进封装这些领域的核心生产设备,长期被德国SUSS、日本DNK、奥地利EVG等海外巨头牢牢把持。国内行业很多年都没跨过“实验室能演示、工厂难量产”的坎,下游企业只能高价采购进口设备,交期长、定制慢、售后响应跟不上,处处受制于人。中特微电子科技公司走的路数很务实,不扎堆去挤高端投影光刻的红海,精准卡位近紫外接近式光刻、LDW激光直写光刻的细分赛道。

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海外巨头在这类定制化程度高、单品规模有限的领域,投入意愿一直不强,技术迭代节奏也慢,刚好给了国内企业弯道超车的空间。依托中科院重庆绿色智能技术研究院的技术底子,团队短短几年自主攻克了UV-LED平行光源、双视场显微对位、视觉伺服精密运动控制三大核心技术,率先实现4/6英寸产品的批量生产,硬生生打破了海外的垄断格局。根据报道,现在它的产品已经打进国内数十家行业头部企业,在光显示细分领域的市场占有率达到80%左右。这次总部落户双流空港聚光光电产业园,不光是扩产能,还在同步研发面板封装激光直写光刻机,一旦落地就能实现从晶圆级到面板级的产品全覆盖。订单破亿是市场给国产设备投的信任票。

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其实国产光刻机的突破,从来都不是单点冲锋。上海微电子攻坚高端浸没式DUV,中特微深耕细分接近式光刻,还有更多企业在不同规格、不同应用场景持续发力。不用总盯着最顶端的那一个节点较劲,每个细分赛道都实现自主,每个垄断环节都逐个打破,拼起来就是整个产业的全面突破。