国家知识产权局信息显示，广州新视界光电科技有限公司申请一项名为“一种减少金属氧化物图案化过程光刻胶残留的TFT制备方法及器件”的专利，公开号CN122909864A，申请日期为2026年7月。

专利摘要显示，本发明公开了一种减少金属氧化物图案化过程光刻胶残留的TFT制备方法及器件，针对现有技术中金属氧化物层图案化后光刻胶残留导致器件电学性能劣化的技术问题，本发明通过三重协同优化实现残留控制：采用超声波喷涂、旋涂的复合涂胶工艺，减少溶剂与聚合物残留；在栅极绝缘层与金属氧化物层之间增设ALD沉积的隔离缓冲层，在金属氧化物层表面增设临时阻隔层，形成双重防渗屏障；结合有机去胶液浸泡‑稀碱清洗‑多级干燥的温和化学清洗工艺，彻底去除残留且无损伤；本发明将光刻胶残留量降低，产品良率升高，适用于显示面板及柔性电子领域的TFT量产。

天眼查资料显示，广州新视界光电科技有限公司，成立于2010年，位于广州市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本3358.3664万人民币。通过天眼查大数据分析，广州新视界光电科技有限公司参与招投标项目85次，财产线索方面有商标信息6条，专利信息165条，此外企业还拥有行政许可5个。

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作者：情报员