国家知识产权局信息显示，艾姆西艾（宿迁）电池技术有限公司申请一项名为“一种HVLP电解铜箔的生产工艺”的专利，公开号CN122898935A，申请日期为2026年7月。

专利摘要显示，本发明涉及电解铜箔制造技术领域，具体公开了一种HVLP电解铜箔的生产工艺，该工艺包括：S1、对生箔电解液进行脉冲电流电沉积，得到生箔；S2、对生箔依次进行电化学粗化和锌钴合金化处理，得到预处理铜箔；S3、将预处理铜箔浸渍于界面诱导剂中进行诱导处理，得到预组装铜箔；S4、将预组装铜箔先浸渍于硅烷偶联剂溶液中，再浸渍于无机钝化液中，得到具有复合钝化层的铜箔；S5、将具有复合钝化层的铜箔烘干，得到HVLP电解铜箔。本发明通过生箔晶粒细化、表面适度粗化、界面化学桥接与有机‑无机复合钝化协同作用，使铜箔兼具超低表面轮廓、高剥离强度、优异耐热老化性和高温抗氧化性，适用于高频高速覆铜板及封装基板领域。

天眼查资料显示，艾姆西艾（宿迁）电池技术有限公司，成立于2023年，位于宿迁市，是一家以从事电力、热力生产和供应业为主的企业。企业注册资本10000万人民币。通过天眼查大数据分析，艾姆西艾（宿迁）电池技术有限公司参与招投标项目3次，专利信息53条，此外企业还拥有行政许可1个。

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作者：情报员