美国为了打压咱们的芯片产业，一直卡着先进设备不卖，尤其是光刻机。
目前ASML能卖给我们的DUV，表面上看好像都能买，但实际上先进的浸润式DUV根本不卖，只给一些相对落后的低端货，落后欧美十多年。
至于EUV光刻机，那更是想都别想，美国和ASML严防死守，因为他们心里清楚，一旦我们有了EUV，马上就能进入7nm以下，中国芯片产业崛起就是必然的事。
所以，只有研发自己的EUV光刻机，否则就会一直被人卡脖子。
虽然也有各种技术想绕开EUV，或者把DUV压榨到极限，但说实话，如果有EUV，这些技术都可以先放一放。
用EUV做物理微缩，是当前的大势所趋，只有没有EUV的时候，才去研究那些折叠技术，是不得已而为之。
EUV光刻机有三大件：EUV光源、物镜系统、工作台。
这三样门槛都极高，但其中EUV光源应该是难度最大的一块。ASML也是集合了多家供应链，才把光源系统整出来。
他们的做法是，用高功率30KW的二氧化碳激光轰击液态锡滴，把锡珠蒸发产生等离子体，辐射出EUV光，再捕获13.5nm波长的光源。这套系统非常复杂，外界甚至认为，除了ASML，其他企业连EUV光源都搞不出来。
但近日，在第二十六届中国国际工业博览会上，一家中国企业展出了一台极紫外光源系统样机，这家公司叫朗道燧岩（上海）科技有限公司。
这是目前国产进度最靠前的EUV光源样机，而且国产化率高达90%，几乎不依赖国外的技术和元件。官方介绍显示，型号为FlintNano LPP-OXXO，驱动激光功率1000W，EUV能量大于15W，转换效率大于2%。
当然，跟ASML的EUV光源比，还有一定差距。但ASML研发了多久？整合了全球最优秀的供应链。而国产厂商是靠自己的实力研发出来的，从这一点上，就足够让人兴奋。
当然，仅有EUV光源还不够，一台完整的EUV光刻机还需要物镜系统、工作台。但路要一步一步走，搞定了光源，就可以去搞定物镜系统，搞定工作台，一样一样来，这是迟早的事。
相信现在不管是ASML还是美国，都有点慌了。毕竟一旦我们研发出了EUV光刻机，ASML的光刻机帝国就会崩盘，美国的禁令也将成为废纸。不怕才是怪事。
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