国家知识产权局信息显示，浙江能鹏半导体材料有限责任公司申请一项名为“一种氧化镓衬底及其化学机械抛光方法与应用”的专利，公开号CN122914027A，申请日期为2026年7月。

专利摘要显示，本发明公开了一种氧化镓衬底及其化学机械抛光方法与应用，属于半导体材料超精密加工技术领域。该方法是将氧化镓衬底依次进行粗抛、精抛和终抛，控制所述氧化镓衬底的表面粗糙度Ra≤0.1nm、亚表面损伤深度<10nm；所述粗抛采用含解理抑制剂的复合悬浮研磨液进行抛光；所述精抛采用含纳米氧化铈和勃姆石的复合磨料对粗抛后衬底的不同晶面进行抛光；所述终抛采用中性抛光液在超声辅助和光催化下进行抛光；所述中性抛光液中含有稀土离子掺杂的氧化铈磨料。本发明的方法不仅抑制了氧化镓衬底在抛光过程中的解理现象，降低了表面粗糙度并减少表面缺陷，且可以提高不同晶面抛光的一致性，特别适合应用于半导体。

天眼查资料显示，浙江能鹏半导体材料有限责任公司，成立于2021年，位于金华市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2000万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江能鹏半导体材料有限责任公司参与招投标项目9次，财产线索方面有商标信息2条，专利信息31条，此外企业还拥有行政许可13个。

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作者：情报员