国家知识产权局信息显示，广州十方尺科技有限公司申请一项名为“一种射频集成电路版图的自适应虚设金属填充方法及系统”的专利，公开号CN122927188A，申请日期为2026年7月。

专利摘要显示，本发明公开了一种射频集成电路版图的自适应虚设金属填充方法及系统，属于集成电路电子设计自动化技术领域。该方法包括：获取目标版图、工艺版图规则和填充配置；解析目标版图并建立空间索引；利用空间索引确定多个局部处理区域的现有密度和可填充状态；识别包括射频敏感区域在内的不同区域，并确定对应的目标填充密度和候选图形生成策略；根据目标填充密度和候选图形生成策略生成虚设金属填充候选图形；对候选图形执行禁填约束检查和工艺规则检查，根据检查结果对受影响的局部处理区域执行删除、调整或重新生成，并将符合工艺规则的候选图形写入目标版图。本发明能够提高射频集成电路版图虚设金属填充的规则符合性和区域适配性。

天眼查资料显示，广州十方尺科技有限公司，成立于2024年，位于广州市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本200万人民币。通过天眼查大数据分析，广州十方尺科技有限公司财产线索方面有商标信息2条，专利信息9条，此外企业还拥有行政许可3个。

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作者：情报员