国家知识产权局信息显示,京东方华灿蓝晶科技(云南)有限公司申请一项名为“晶片抛光方法”的专利,公开号CN122914028A,申请日期为2026年7月。
专利摘要显示,本申请公开了一种晶片抛光方法,包括以下步骤:制备粗磨抛光垫和精磨抛光垫;待抛光晶片放入磷酸溶液中浸泡活化反应界面后,测温满足抛光要求后置于加热载物盘上,超声预处理抛光液后,先进行粗磨抛光,然后进行精磨抛光,清洗得到抛光晶片。该方法能有效提高所得晶片的TTv<2μm,同时提高产品的平坦度:晶片的翘曲度(Warp) < 20 μm和弯曲度(Bow)< 8μm。
天眼查资料显示,京东方华灿蓝晶科技(云南)有限公司,成立于2002年,位于玉溪市,是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本42100万人民币。通过天眼查大数据分析,京东方华灿蓝晶科技(云南)有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目22次,财产线索方面有商标信息1条,专利信息66条,此外企业还拥有行政许可19个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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