国家知识产权局信息显示，北京知识产权运营管理有限公司申请一项名为“半导体结构及其形成方法”的专利，公开号CN122934885A，申请日期为2025年4月。

专利摘要显示，本申请提供半导体结构及其形成方法，所述半导体结构包括：半导体衬底，所述半导体衬底包括若干晶体管区域，每个晶体管区域均形成有鳍片结构以及隔离相邻鳍片结构的隔离结构；栅介质层，位于所述鳍片结构表面；栅极层，覆盖所述鳍片结构顶面和侧壁；若干截断结构，贯穿所述栅极层至所述隔离结构表面。本申请提供一种半导体结构及其形成方法，可以有效控制伪栅极截断尺寸，即使有偏移也不至于影响器件可靠性。

天眼查资料显示，北京知识产权运营管理有限公司，成立于2014年，位于北京市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本15067万人民币。通过天眼查大数据分析，北京知识产权运营管理有限公司共对外投资了12家企业，参与招投标项目39次，财产线索方面有商标信息2条，专利信息173条，此外企业还拥有行政许可2个。

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作者：情报员