国家知识产权局信息显示，浙江大华技术股份有限公司申请一项名为“辐射制冷复合膜及其制备方法和应用”的专利，公开号CN122916453A，申请日期为2026年8月。

专利摘要显示，本申请涉及一种辐射制冷复合膜及其制备方法和应用，所述辐射制冷复合膜包括层叠设置的热响应动态层、自修复层以及氟化物疏水层，其中：所述热响应动态层包括正热膨胀材料、负热膨胀材料和光热响应剂；所述自修复层包括阵列分布的ZnO纳米柱，以及填充于所述ZnO纳米柱之间的负热膨胀材料，所述ZnO纳米柱垂直于所述热响应动态层；所述正热膨胀材料与所述负热膨胀材料的热膨胀系数匹配度≤16%。本申请所述的辐射制冷复合膜兼具动态辐射制冷、自修复和自清洁功能，能够根据环境温度自动调节制冷效果，并保持性能稳定。

天眼查资料显示，浙江大华技术股份有限公司，成立于2001年，位于杭州市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本326926.2074万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江大华技术股份有限公司共对外投资了71家企业，参与招投标项目10464次，财产线索方面有商标信息324条，专利信息11473条，此外企业还拥有行政许可408个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

本文源自：市场资讯

作者：情报员