国家知识产权局信息显示,苏州五方光电材料有限公司申请一项名为“一种光学保护屏幕基板及其制备方法”的专利,公开号CN122916455A,申请日期为2026年8月。
专利摘要显示,本发明公开了一种光学保护屏幕基板及其制备方法,涉及玻璃镀膜技术领域,包括以下步骤:步骤S1,采用多步离子交换法对玻璃基层表面进行应力处理;步骤S2,通过多源共镀方法在预处理后的UTG玻璃表面生长有机膜层,修复表面缺陷;步骤S3,实时监测各蒸发源的沉积速率并反馈调节;步骤S4,采用真空蒸镀方法镀制增透膜层;步骤S5,对玻璃盖板进行低温固化处理。本发明通过在玻璃与增透膜层之间增设一层有机膜层,有机膜层渗入基材表面的微裂纹,对裂纹进行填充修复,并优化膜层堆叠顺序与镀膜工艺,对有机膜层各组分的蒸发速率实时监测和调节,控制有机膜层的生长和结构,保证有机膜层均匀平整沉积,降低缺陷和内应力的影响。
天眼查资料显示,苏州五方光电材料有限公司,成立于2015年,位于苏州市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本10500万人民币。通过天眼查大数据分析,苏州五方光电材料有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目7次,专利信息84条,此外企业还拥有行政许可29个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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