国家知识产权局信息显示，上海中航光电子有限公司申请一项名为“再分布层的制造方法”的专利，公开号CN122935260A，申请日期为2026年4月。

专利摘要显示，一种再分布层的制造方法，包括：第一曝光步骤，对支撑基板的第一主表面上的负性感光材料层以预定图案进行曝光；第二曝光步骤，从支撑基板的第二主表面侧，对负性感光材料层在其整个表面进行曝光；显影步骤，对经曝光的负性感光材料层显影，以形成第一绝缘层，该第一绝缘层在第二主表面上具有凹部图案；以及第一布线层形成步骤，在第一绝缘层的第二主表面上形成第一布线层；以及分离步骤，从支撑基板的第二主表面侧向第一绝缘层照射光，以将第一绝缘层从支撑基板分离。

天眼查资料显示，上海中航光电子有限公司，成立于2009年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本160000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海中航光电子有限公司参与招投标项目247次，专利信息982条，此外企业还拥有行政许可197个。

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作者：情报员