国家知识产权局信息显示，三星显示有限公司申请一项名为“沉积掩模、制造其的方法及通过使用其制造的电子装置”的专利，公开号CN122918499A，申请日期为2026年3月。

专利摘要显示，公开一种沉积掩模、制造沉积掩模的方法及通过使用其制造的电子装置。一种沉积掩模可包括：掩模基板，具有单元开口；隔膜，布置在掩模基板的前表面上，由单元开口部分地暴露，并且具有穿透（例如，延伸穿过）由单元开口暴露的部分的像素开口；以及后反射膜，布置在掩模基板的后表面、单元开口的内侧表面和由单元开口暴露的隔膜的部分上。

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作者：情报员