国家知识产权局信息显示，研微（江苏）半导体科技有限公司申请一项名为“多腔独立电磁屏蔽的等离子体工艺装置”的专利，公开号CN122930801A，申请日期为2026年9月。

专利摘要显示，本申请属于半导体设备领域，提出了一种多腔独立电磁屏蔽的等离子体工艺装置，可以实现多腔装置中各腔独立的电磁屏蔽效果。等离子体工艺装置包括腔体部和电磁屏蔽结构，其中，腔体部包括：多个上腔模块，每个上腔模块包括上电极，多个上腔模块相互之间独立设置；中腔体，多个上腔模块分别与中腔体连接；下腔体，可分离地连接于中腔体，且下腔体与中腔体之间密封连接；电磁屏蔽结构包括：多个上腔屏蔽罩壳，每个上腔屏蔽罩壳适于自上部包围一个上腔模块的外周，多个上腔屏蔽罩壳分别适于与中腔体电连接、且中腔体适于与下腔体电连接。

天眼查资料显示，研微（江苏）半导体科技有限公司，成立于2022年，位于无锡市，是一家以从事通用设备制造业为主的企业。企业注册资本3899.1337万人民币。通过天眼查大数据分析，研微（江苏）半导体科技有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目12次，财产线索方面有商标信息10条，专利信息79条，此外企业还拥有行政许可10个。

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作者：情报员