国家知识产权局信息显示，圆益IPS股份有限公司申请一项名为“等离子体源及基板处理装置”的专利，公开号CN122953533A，申请日期为2024年12月。

专利摘要显示，根据本发明一观点的等离子体源包括：反应主体，结合多个主体部而成，所述主体部内部形成气体扩散空间，并且在相互结合的多个主体部之间结合并形成至少一个绝缘部，并且所述多个主体部内的所述气体扩散空间相互连通整体形成闭环形状且激活工艺气体的环形通道；磁芯部，形成为包围所述主体部的至少一部分；绕组部，从电源部接收供电，以在所述磁芯部内感应磁力。所述主体部包括：内壁部，构成所述气体扩散空间；多孔支撑部，形成在所述内壁部的外侧，以在所述主体部内部与所述主体部的外部之间进行热传递；在所述主体部中，所述气体扩散空间的内侧表面形成为具有相互连续的表面，所述多孔支撑部可在所述内壁部上无边界线地相互连续形成。

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作者：情报员