国家知识产权局信息显示，神光光学集团有限公司申请一项名为“一种适配VAD沉积工艺的磁悬浮式石英喷灯的可调底座”的专利，公开号CN122940359A，申请日期为2026年8月。

专利摘要显示，本发明提供了一种适配VAD沉积工艺的磁悬浮式石英喷灯的可调底座，涉及支撑座技术领域。该可调底座，包括：固定基座、磁悬浮承载组件、夹持组件和电控调节模组。固定基座安装在VAD沉积设备上。磁悬浮承载组件安装在固定基座的顶部。夹持组件安装在磁悬浮承载组件的顶部，喷灯设置在夹持组件上。电控调节模组与磁悬浮承载组件电性连接。通过电控调节模组调整磁悬浮承载组件的位置，使得安装在磁悬浮承载组件顶部的夹持组件的位置发生变化，实现喷灯的位置调整。本发明采用磁悬浮承载组件作为可调底座的调整部件，还能实现小角度倾角多维的无接触调整，提高调整位置的精度，降低调整过程中因机械振动造成的偏差，提升高纯合成石英玻璃良品率。

天眼查资料显示，神光光学集团有限公司，成立于2012年，位于成都市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本18607.4012万人民币。通过天眼查大数据分析，神光光学集团有限公司共对外投资了12家企业，参与招投标项目52次，财产线索方面有商标信息36条，专利信息58条，此外企业还拥有行政许可21个。

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作者：情报员