国家知识产权局信息显示，河北美泰电子科技有限公司申请一项名为“一种MEMS惯性器件及其制备方法”的专利，公开号CN122940109A，申请日期为2026年9月。

专利摘要显示，本发明提供一种MEMS惯性器件及其制备方法，涉及MEMS惯性器件技术领域。该方法包括在衬底层上依次形成多晶硅布线层、正性光刻胶层；对正性光刻胶层进行第一次曝光，第一次曝光为光栅曝光；对锚点区域上的正性光刻胶层进行第二次曝光；在第二次曝光之后，对正性光刻胶层进行显影，去除锚点区域的光刻胶，在锚点区域之外得到纳米点阵图形光刻胶；刻蚀多晶硅布线层，在锚点区域之外的多晶硅布线层表面形成纳米点阵微凸点；去除纳米点阵图形光刻胶，并在刻蚀后多晶硅布线层上制备锚点以及可动结构层。本发明能够设置纳米级微凸点结构，均匀地减小真实接触面积、在不增加纳米级制版与光刻设备的条件下实现防粘附。

天眼查资料显示，河北美泰电子科技有限公司，成立于2011年，位于石家庄市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3299.955万人民币。通过天眼查大数据分析，河北美泰电子科技有限公司参与招投标项目151次，财产线索方面有商标信息10条，专利信息204条，此外企业还拥有行政许可9个。

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作者：情报员