国家知识产权局信息显示，武汉华星光电技术有限公司申请一项名为“显示装置”的专利，公开号CN122971121A，申请日期为2026年7月。

专利摘要显示，本申请提供了一种显示装置，该显示装置的像素至少包括第一薄膜晶体管和第二薄膜晶体管。第二薄膜晶体管位于第一薄膜晶体管所在的层级的上方。第二薄膜晶体管包括第一电极、第一绝缘层、第二电极、第二半导体层、第二栅极绝缘层和第二栅极，第一绝缘层位于第一电极上并具有贯穿第一绝缘层的开口，第二电极位于开口周围的第一绝缘层上，第二半导体层的第一部分位于开口内并与第一电极电连接，第二半导体层的第二部分位于开口的侧壁上，第二半导体层的第三部分位于第二电极上并与第二电极电连接，第二栅极绝缘层覆盖第二半导体层，第二栅极位于第二栅极绝缘层设置于开口的侧壁上的部分上。本申请的技术方案有利于提高显示面板的像素密度。

天眼查资料显示，武汉华星光电技术有限公司，成立于2014年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本850000万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉华星光电技术有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目721次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息6121条，此外企业还拥有行政许可301个。

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作者：情报员