国家知识产权局信息显示,苏州旌晖创半导体新材料有限公司申请一项名为“一种分区控温金刚石沉积设备”的专利,公开号CN122980025A,申请日期为2026年8月。

专利摘要显示,本发明公开了一种分区控温金刚石沉积设备,涉及金刚石沉积技术领域,包括沉积室,沉积室底部安装有多个安装板,安装板内安装有环形筒,环形筒两端分别安装有进水管和排水管,环形筒靠近排水管的一侧安装有调节件,调节件与侧环形筒之间安装有连通件。该实用通过在拦截板内安装由转动杆、转动板、螺纹筒和螺纹块组成的转动结构,再在拦截板内顶部安装由挤压筒和挤压杆组成的感应结构,利用感应结构调整转动结构进行偏转,当排水管内水位降低时,感应结构带动转动结构偏转并将连通管打开,使部分内侧排水管内水流流入外侧相邻的环形筒内,进而降低外侧环形筒的降温效果,便于沉积室内部温度调控,同时降低水资源浪费。

天眼查资料显示,苏州旌晖创半导体新材料有限公司,成立于2023年,位于苏州市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析,苏州旌晖创半导体新材料有限公司参与招投标项目1次,专利信息12条,此外企业还拥有行政许可4个。

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

本文源自:市场资讯

作者:情报员