国家知识产权局信息显示，大立光电股份有限公司取得一项名为“成像镜头与电子装置”的专利，授权公告号CN224907116U，申请日期为2025年7月。

专利摘要显示，一种成像镜头与电子装置。成像镜头具有一光轴，包含一透镜组，透镜组包含多个透镜，所述透镜沿光轴设置，并包含一第一透镜以及至少一抗反射膜。第一透镜包含一第一物侧面以及一第一像侧面。光轴通过第一物侧面。第一像侧面沿光轴的方向相对第一物侧面设置。抗反射膜设置于第一物侧面与第一像侧面中的至少一面，抗反射膜包含一纳米结构层以及一中介层。纳米结构层的主要成分为氧化铝，其包含非定向延伸的多个脊状凸起，且脊状凸起自一底部向一顶部渐缩延伸。通过抗反射膜的脊状凸起有助于形成渐变折射率，以提供较佳的低反射率表现。

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作者：情报员