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前一段时间上海市委外宣办公布了一个令人振奋的好消息，那就是中国科技企业上海微电子在光刻机领域实现了突破性的进展，完成了90nm光刻机的技术突破。在这个好消息传出还没有多久之后，近期又再度传出了关于中国光刻机方面的消息。
有消息传出，在本周杭州积海半导体新增设备招标89台、上海积塔新增设备招标7台以及华虹宏力、华虹半导体等企业的招标当中，中国光刻机制造企业累计中标了28台相关的设备，其中就包括了光刻机、蚀刻机以及一些其他的清洗设备、工艺检查设备等。
国产光刻设备再度突破，新消息传出
随着上海微电子等国产光刻机企业的不断发展，中国的光刻机技术也在飞速提升当中，近些年来更是频繁传出光刻机相关技术突破的好消息。本月月初上海市委外宣办公布的光刻机技术突破90nm关口更是意义重大，引起了许多人的重视和广泛讨论。
此次中国光刻机企业在设备招标当中取得了好成绩，也正式印证了90nm光刻机技术突破带来的重要意义。
我们都知道，作为目前全球高精科技的集合体，光刻机设备的制造难度十分之高，其中涉及到了多个方面、诸多领域的顶尖知识，可以称得上是人类目前技术的最高结晶之一。全球领域当中最著名的光刻机制造厂商ASML也无法单独制造出顶尖的EUV光刻机，而需要依赖全球供应链以及其他各国的顶尖技术。
可以说，光刻机的制造难度之高，远远超出我们的想象。上海微电子在90nm领域光刻机的技术突破，不仅仅意味着国内光刻机的技术迈入了一个新的台阶，也意味着中国打造出了光刻机领域的完整产业链，可以将制造光刻机对于其他国家或是企业的技术依赖降到最低。
国产光刻机发展迅速，日本企业入局，ASML该何去何从
在本次招标的相关消息当中，除了中国光刻机企业中标的消息之外，还有一点值得关注，那就是在本次中标的名单当中，目前还没有ASML的名字。对于这一情况，很多人都猜测，可能是因为本次招标的设备当中没有DUV光刻机，也有可能是还没有公布。只不过，无论到底是什么原因，都说明了一个问题，ASML在中国市场当中的影响力正在逐渐减弱。
为了限制中国光刻机和芯片行业发展，美国多次修改芯片规则，不仅禁止了一些高精的芯片进入中国市场，同时也限制了ASML出口EUV光刻机到中国市场，甚至一度想要限制外资企业在中国扩建相关的生产线。
由于需要依赖美国的技术，ASML也是遵守了美国禁止出口EUV光刻机到中国市场的规定，然而原本并不算太在意的ASML却逐渐发现，中国市场正在逐渐降低对ASML的依赖。
一方面，中国光刻机企业的技术发展迅速，虽然目前还无法制造出来顶尖的EUV光刻机，但是已经有能力部分制造成熟领域的光刻机，因此许多中国企业都纷纷选择了中国国产的光刻机设备。
另外一方面，日本的两大光刻机企业也纷纷宣布要进入中国市场，和ASML一起争夺中国市场的光刻机份额，在本次招标公布的名单当中，也有不少由日本光刻机企业提供的相关设备。
多重因素结合之下，ASML对中国市场的影响力也是在不断的削弱，因此ASML也是加大了对中国市场的重视，多次出口了多台DUV光刻机到中国企业。
面对这种局面，其实是有利于中国光刻机企业发展的，ASML想和日本的两家光刻机企业互相竞争，就必须要在一些方面让利给中国的光刻机企业或是对光刻机有需求的企业。
写在最后：无论如何，只有将核心技术掌握在自己手中，才能避免被卡脖子的事情发生，希望国产光刻机企业能够进一步发展，摆脱受限。对此你们是怎么看的呢？
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