【风从何来】中微创始人、全球等离子体刻蚀技术权威专家尹志尧教授，在2024年度总结会上语惊世界：自己在美国工作了40年，从来没有想到过我们能做到这么高的刻蚀精度。他透露：中微最新刻蚀机的准确度已经达到0.02纳米，每次加工一个原子都不差。这让美国硅谷的芯片巨头们坐不住了。
中国刻蚀机准确度全球第一了吗？带着这个问题，大风认真做了一番功课，但由于是芯片领域的门外汉，没有搜到准确度0.02这个概念，用来表示准确度的标准似乎还是百分比，比如，《瑞士开发出首个高性能、微型脑机接口芯片MiBMI，准确率高达91%》、《芯片新进展：达摩院研制出两比特量子芯片，单比特操控精度达99.97%》等，没有说0.02纳米的。
但是，可以肯定的是，最先进的芯片并不在中国。
去年12月28日，由中国工业报社主办的第十七届中国工业论坛在京召开，国家统计局原副局长贺铿深信：“我国正在打破美西方的技术封锁，走出自己的研发之路，以长攻美西方之短，以短克美西方之长。虽然我国目前还不能生产4纳米芯片，但我国生产的7纳米芯片已在全球范围内占有很高比重。”这是官方的结论。
而世界上最强芯片在哪里呢？毫无疑问是英伟达。11月18日，第一财经资讯发布一篇文章，其中写道：
“事实上，台积电为AMD代工的最新芯片是4纳米的。台积电为英特尔代工的3纳米CPU也出了大问题。台积电为英伟达代工的3纳米GPU问题更严重。台积电为高通代工的3纳米手机芯片也是在降频使用，并不是可正常使用的、真正的3纳米芯片，而是假3纳米。台积电4纳米芯片可用晶体管数量只有35—45%，台积电3纳米芯片可用晶体管数量只会更少。
这就得出，世界上最强芯片且实现量产的，是4纳米。
【大风评】
据尹志尧描述：“这一刻蚀精度已经远超国际同类设备，达到了世界最高水平。”
尹教授当年在美国泛林科技公司和应用材料公司等任职期间，已经把等离子体刻蚀机技术发展到了国际领先水平。2004年，年近花甲的他放弃在美国的所有荣誉与地位，回到祖国创办中微半导体设备有限公司。
在中微，他带回三十多名在等离子体刻蚀技术领域同样享有盛誉的专家。经过20年的发展，中微刻蚀设备已经满足5纳米以下器件制造需求，并正在持续拓展3纳米、2纳米等更先进制程节点的技术储备。
现已80多岁高龄的尹教授仍然坚守在科研一线。他用毕生精力和智慧，为东方大国在集成电路产业链上游领域取得突破贡献着力量。
这就有点奇怪，尹教授带回国一些在美国企业名不经传的研发员工，成立了一个企业，用国外的一些技术，就遥遥领先了。
门外汉的考证，不当之处，请批评指正。
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