荷兰一家科技学院的董事在接受采访时说，中国与其花大把钱去搞光刻机研发，不如把这笔钱用在别的地方。这话听起来挺“理性”，甚至带着点“为你好”的语气。他说得没错，光刻机这东西确实难做。一台EUV光刻机，零件超过十万个，来自全球5000多家供应商，光是德国蔡司的镜头系统就卡住了无数国家。更别说整个技术体系被ASML、英特尔、台积电这些巨头牢牢攥在手里，专利壁垒高得像一堵墙。从这个角度看，一个国家想从零开始造出自己的高端光刻机，几乎是在挑战物理和工程的极限。
但问题在于，这位董事忽略了一个最根本的事实：有些事，不是“值不值得做”，而是“不得不做”。
芯片是现代工业的血液，而光刻机就是制造芯片的核心工具。没有它，7纳米以下的先进制程就无从谈起，人工智能芯片、高性能计算、下一代通信设备都会被卡住脖子。这不是选择题，而是生存题。你可以劝一个人别去爬珠峰，因为太危险、成本太高，但如果他家就在山那边，不翻过去就活不下去，那他只能硬着头皮上。
中国不是没试过“干点别的”。过去几十年，我们大量采购国外设备，依赖全球供应链，结果呢？一旦地缘政治风向一变，出口管制一收紧，整个产业链就面临停摆风险。华为被断供就是一个活生生的例子。那时候大家才真正明白，核心技术靠买是买不来的，靠求更是求不到的。
所以，中国投入巨资研发光刻机，不是为了“复制ASML”，也不是为了“争一口气”，而是为了掌握最基本的产业自主权。哪怕短期内看不到回报，哪怕要花二十年、三十年，也必须有人去做。因为一旦放弃，就意味着永远被锁在技术金字塔的底层，只能做组装、代工、低端制造，永远无法参与最高端的竞争。
那位董事还提到，日本当年靠逆向工程抄了美国GCA的光刻机，后来却还是被ASML用浸润式技术一举反超。他似乎想用这个例子说明“模仿没出路”。但这里有个关键区别：日本当年抄的时候，整个行业还在成长期，技术路线尚未固化；而今天，EUV已经成了事实标准，生态、专利、供应链高度集中，想绕开几乎不可能。
正因为如此，中国的策略其实比“照搬”要复杂得多。一方面，确实在攻关LPP光源、精密光学、双工件台这些传统路径上的关键技术；另一方面，也在探索LDP、纳米压印等非主流路线。这不是盲目蛮干，而是在多条战线上同时推进，试图找到突破口。哪怕只有一条路走通，就能打破僵局。
更重要的是，光刻机研发带来的溢出效应远超想象。为了造这台机器，中国在超高真空、精密控制、激光物理、材料科学等领域都取得了实质性进步。这些技术不会只停留在实验室，它们会流向医疗设备、航空航天、高端仪器制造等多个行业。换句话说，就算最终没能造出完全对标ASML的EUV，这场“长征”本身就已经在重塑中国的工业基础。
有人说，与其死磕光刻机，不如发展chiplet（芯粒）、RISC-V架构或者新材料器件，绕开摩尔定律的限制。这种思路当然有价值，也是中国正在布局的方向。但问题是，先进封装依然需要先进制程的芯片作为基础，RISC-V也需要制造能力来落地。没有制造，再好的设计也只是纸上谈兵。
回到那位荷兰董事的话——“不如拿钱干点别的”。这话如果出自一个普通学者之口，或许只是学术讨论；但出自一个与ASML生态密切相关的人士之口，就难免让人多想一层。ASML今天的地位，正是建立在全球多数国家“不干这事”的基础上。如果大家都觉得“不划算”“没必要”，那它的垄断就稳如泰山。
而中国偏偏不信这个邪。明知山有虎，偏向虎山行。这不是冲动，而是一种清醒的战略定力。历史上，所有实现技术跃迁的国家，都是在别人说“你做不到”的时候，默默把事情做成了。
所以，别用“性价比”去衡量光刻机的研发。这不是一笔经济账，而是一笔战略账、安全账、未来账。今天花3000亿可能造不出完美的EUV，但如果不花这3000亿，明天连说话的资格都没有。
中国不怕慢，就怕停。光刻机这条路，注定漫长、孤独、充满失败，但只要不停下脚步，就有希望。而那些劝你“干点别的”的人，或许只是希望你永远留在原地，别去动他们的蛋糕。
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