2024年9月，中科大前副院长朱士尧在上海一次访谈里直接说了那句话。美国造不出顶尖极紫外光刻机，中国也永远做不到。
当时美国对先进半导体设备卡得更紧，国内正全力推国产替代，这话传开后网上吵成一锅。很多人觉得他唱衰，有人却开始琢磨光刻机到底有多复杂。
朱士尧1944年生在上海嘉定，1968年从中国科学技术大学毕业，主修原子核物理。他后来在学校搞等离子体物理研究，还当过研究生院副院长。
退休后到华为工作近十年，接触过不少真实的技术瓶颈。他的判断不是空谈，而是看多了产业实际。
光刻机整机重180吨，零件超过十万个。荷兰ASML负责最后组装，自己掌握的核心技术不到10%。剩下全靠全球五千多家供应商协作。
美国提供光源主部件，德国蔡司独家做光学镜头，日本管关键材料和光刻胶。美国过去试过自己拉整条线，成本高到离谱，技术也凑不齐，最后只能停手。
朱士尧强调的正是这个。顶级设备不是一个国家单干的事。任何地方想100%自主闭环，都得面对供应链的现实。
中国现阶段单独搞，压力只会更大。但这话不是说中国没能力，而是提醒别忽略规律。
中国在深紫外光刻机上已经站稳脚跟。上海微电子的90纳米机型早实现规模量产，主要用在汽车电子和消费芯片领域。
国内市场占有率稳步爬升，帮产业链本地化省了不少成本。
2024年初，上海微电子28纳米浸没式机型开始交付客户。2025年5月前后，首台进入批量出货阶段。
国产化率超过85%，光源系统功率提升明显，双工件台等核心部件自主程度高。设备在验证产线表现稳定，良率逐步上来。
这些中端机型满足了成熟制程需求。工厂不用全靠进口，成本降下来，供应链安全感也强了。上海微电子在先进封装光刻机上份额更高，国内超过80%。
顶级极紫外光刻机难点还在光学系统和光源。镜头平整度要控制在0.1纳米以内，系统软件得协调十万个零件同步。
光源部分需要激光每秒轰击锡滴几万次，能量转换效率要求极高。
哈尔滨工业大学团队专注光源攻关。2022年推出样机，2023年完成原型，2024年通过关键测试。
2025年初正式宣布13.5纳米极紫外光源突破，采用放电等离子体路线，体积小、能耗低，适合工程化。
其他单位也在同步推进。长春光机所等团队优化镜面镀膜和波前控制。国产光刻胶在28纳米节点良率已经超过90%。子系统一个个突破，为整机集成打基础。
中国选择先把中端做稳，再逐项补高端短板。上海微电子把前道研发和产业化分开布局，集中资源攻关键点。2025年设备市场份额明显上升，进口量同比下降。
这种路径像过去高铁和盾构机，先消化吸收，再自主创新。不是一蹴而就，但每一步都实打实。朱士尧的话让舆论冷静下来，少些口号，多些踏实投入。
到现在，国产光刻机在成熟领域已经形成竞争力。28纳米机型验证产线运行平稳，光源突破给后续整机带来新希望。产业链配套越来越全，高端装备自主能力在稳步积累。
科技突破靠日积月累。光刻机全球协作的本质摆在那，中国正按自己的节奏往前走。未来高端部分会逐步跟上，产业规律尊重了，路也就走得稳。
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