这个判断，和半年前市场的普遍担忧截然不同。
ASML中国区总裁沈波解释得更直白。 前两年订单集中爆发，是因为行业积压了太多设备缺口，各家芯片厂都在集中补货，甚至提前囤积设备，以应对不确定的外部政策环境。 现在订单量下降，只是行业从“恐慌性囤货”回归到了正常的采购节奏。
按照ASML今年接近四百亿欧元的全年营收预期来算，20%的占比，意味着中国市场依然能带来近八十亿欧元的收入。 这个数字，依然是ASML全球所有单一市场中，最稳定、最核心的收入来源之一。
真正让ASML感到压力的，不是订单数字的波动，而是来自大洋彼岸不断收紧的绳索。
2026年4月，美国国会提出了《硬件技术控制多边协调法案》，也就是MATCH法案。 这个法案的核心目标，是在现有禁止极紫外光刻机（EUV）对华出口的基础上，进一步将浸没式深紫外光刻机（DUV）也纳入全面限制范围，并要求荷兰、日本等盟友在150天内与美国政策对齐。
DUV光刻机，正是目前ASML能够向中国稳定出货的主力设备。 这些设备的技术基础，很多还停留在2015年的平台，对应的是八代之前的芯片制造工艺。 用ASML首席执行官富凯的话说，这些算不上最顶尖的技术，却是公司重要的利润来源。
2026年5月，富凯在比利时安特卫普的一场科技活动上，公开表达了他的担忧。 他用了一个比喻：“如果我将你放到沙漠里，告诉你今后再也没有食物来源了，你需要多久才开垦出自己的菜园？ 这是存亡的问题。 ”他警告，持续收紧对华出口管制，非但无法遏制中国芯片产业的发展，反而会加速中国自主研发替代设备的步伐。
富凯态度的转变很微妙。 就在2025年底，他还曾附和西方舆论，认为中国市场的需求会大幅缩水。 短短半年后，他却成了公开呼吁“不要进一步刺激中国”的人。
这种转变的背后，是清晰的商业逻辑。 ASML正在巨额投入研发新一代的EUV和High-NA EUV光刻机。 这些前沿技术的研发，需要海量的资金持续输血。 而来自中国市场的、稳定的DUV设备销售收入，正是支撑其研发投入的关键现金流。
荷兰政府已经对MATCH法案表示了反对，认为其存在不合理的域外管辖效力。 ASML正处在一个尴尬的夹缝中：一边是美国要求其彻底切断与中国部分客户联系的政治压力，另一边是无法承受失去这个最大单一市场的现实。
高盛的报告点出了一个关键：由于无法获得EUV设备，中国客户普遍采用基于多层堆叠的替代技术路径来实现制程推进。 这种方式对光刻设备的使用密度更高，客观上加大了对DUV系统的持续采购需求。 这成了ASML一个独特的“缓冲”市场。
但这条缓冲带，正在被来自另一个方向的进展所挤压。
与此同时，国内芯片制造龙头也在用自己的方式突围。 中芯国际在2026年的核心目标之一，是将其7纳米制程的月产能翻倍，提升至7万片。 他们采用DUV多重曝光技术来攻坚先进制程，尽管在良率上与国际领先水平仍有差距，但产能的扩张计划本身，就表明了其技术路线的推进决心。
这些进展，或许正是富凯口中“开垦菜园”的早期成果。 高盛的分析师在报告里将“中国需求”单独标注，恰恰说明在可预见的短期内，中国市场对ASML的DUV设备仍有依赖。
ASML的两位CEO都承认，中国在高端光刻机领域实现替代只是时间问题，这个趋势不会改变。 公司当前能做的，就是抓住现有机会多销售DUV设备，多获取现金流。
这两个数字并列在一起，勾勒出ASML当下的全球业务图景：一边是炙手可热、代表未来的AI驱动市场，另一边是庞大、稳定但充满变数的基本盘。
MATCH法案的最新版本，虽然删除了一些争议条款，但仍保留了对向中国特定芯片制造商供应DUV光刻机的限制。 法案为美国政府与盟友的协商设定了期限，若未能如期达成一致，美方将单方面扩大管制。
这场博弈的时钟，在滴答作响。
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