在美国多重落闸，试图限制中国取得先进技术之术，路透报道指，中国科学家已经成功打造出一部极紫外光（EUV）光刻机的原型机，意味着能够生产可驱动人工智能AI、智能电话和先进武器的芯片。

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EUV光刻机能够利用极紫外光束在硅片上蚀刻电路，能制造出更小、更密集的电路，能提升芯片的效能及效率，从而生产出最先进、高阶的芯片。而这项技术一直被西方供货商垄断。

报道指，中国科学家今年年初于深圳实验室里打造出EUV 原型设备，目前正在测试阶段，体积几乎占满整个工厂楼层。这项被形容为「中国曼哈顿计划」（Manhattan Project）的秘密工程项目，突显中国锐意在AI 芯片技术领域与西方匹敌。所谓「曼哈顿计划」即是美国二战期间研发人类首枚原子弹的秘密军事计划。

知情人士透露，这部EUV 光刻机是由一组来自荷兰芯片设备巨头ASML 的前工程师团队打造，透过逆向工程仿制ASML 的EUV 机。目前该部中国EUV 光刻机已能运行并成功产生极紫外光，但尚未生产出可用的芯片。

据报，中国政府的目标是在2028年前实现原型机芯片生产，部份专家则估计有可能到2030年才实现量产，仍比外界认为的「至少10年」大幅提前。