荷兰政府发布新规，ASML公司出口其1970i和1980i型号的浸润式DUV光刻机，现在需要先获得荷兰政府的出口许可证。这项规定已经在去年9月7日正式生效。对于需要大量芯片的东方大国来说，这意味着一扇重要的技术进口之门，又被加上了一道更复杂的锁。
这不是ASML第一次受到出口管制，但这次将限制扩大到了更广泛使用的次先进型号。事情的本质，是出口管制链条的又一次收紧。早前，ASML最先进的极紫外光刻机和最高端的浸润式DUV光刻机，比如2000i及以后的型号，出口就已经需要许可证了。
这次的新规针对的是1970i和1980i，这些是能够支持更先进制程、但应用也非常广泛的机型。荷兰政府表示，这一决定是基于国家安全的考虑。
值得注意的是，这背后有明显的美国推动痕迹。有分析指出，美国一直在向荷兰施压，要求其扩大对华出口限制。为了实现所谓的“协同共管”，美国甚至调整了自己的出口管制规则，用“美国含量”条款对盟友未加限制的设备进行“兜底”管制，以此迫使荷兰跟进。最终，荷兰拿回了这批设备的审批权，将管制范围与美国对齐。但我们需要看清楚，这不等于“完全买不到了”。
目前的规定是“需要申请出口许可证”。这意味着每一笔交易将面临荷兰政府的个案审查，流程更复杂，不确定性大增，但理论上仍有获批的可能。同时，并非所有DUV光刻机都受到同等限制。例如，更成熟一些的型号，像提纲里提到的1960B，目前可能不在这个最严格的许可清单内。
事实上，在2023年上一轮管制正式落地前，ASML曾集中向中国客户交付了一批设备，这帮助许多工厂稳住了产能。影响是实实在在的。1970i和1980i这类设备，是扩大和升级28纳米等成熟制程、乃至探索更先进制程的关键工具。获取难度增大，最直接的影响可能是部分芯片生产线的扩产和升级计划会放缓。
就像提纲里说的，未来我们买车，可能会因为某些关键芯片供应紧张而需要等待；维修家电时，也可能因为芯片成本上涨而面临涨价。这些成熟制程的芯片，广泛存在于我们的汽车、家电和各类工业设备中，是实实在在的“工业粮食”。面对封锁，中国的半导体产业没有坐以待毙，而是同时在走两条路。
第一条路是自主研发。国内的龙头企业，如上海微电子，已经在90纳米光刻机上取得了量产突破，并且正在向28纳米技术攻关。这是从零到一的坚实一步。第二条路是技术极限挖掘。这是目前更现实、也显示出中国工程师智慧的道路。通过购买能获得的、相对成熟的二手DUV设备，然后进行精密的改造和升级，再结合“多重曝光”这种超高难度的工艺技巧，可以在DUV光刻机上实现远超其设计标准的加工精度。
业界已有实践表明，通过这种方法，可以将DUV光刻机的潜力逼近到前所未有的水平，甚至能满足部分5纳米制程芯片的制造需求。这条路艰难，但行之有效。ASML自身也身处这场地缘政治博弈的漩涡中。一方面，作为一家商业公司，庞大的中国市场对其至关重要。去年第三季度，中国市场贡献了ASML超过40%的营收。另一方面，它又必须遵守日益严厉的出口管制。
ASML的CEO曾表达过一种矛盾的心态。他承认中国有巨大的创新潜力，如果完全切断技术，反而会迫使中国走上完全自主的道路。因此，他认为西方的策略应该是“适度输出技术”，以保持一定的技术代差，同时维系中国对现有技术体系的依赖。据他透露，当前能向中国出口的设备，与其最先进技术相比，差距在八个代际以上。很多人把光刻机攻关与当年的“两弹一星”相比较。有网友说得很中肯：光刻机的技术复杂度确实极高，可能远超当年的原子弹。
但若放在各自时代背景下看，当年研制原子弹时，我们面临的封锁、技术空白和物质匮乏，其艰难程度同样不亚于今天的光刻机。结果我们都知道了。这种对比不是为了简单类比，而是说明一个道理：被逼到绝境的创新意志，往往能爆发出惊人的力量。
芯片之争，从来不是对方一关了之，我们就无路可走。荷兰的一纸公文，给全球化的半导体产业又划下了一道裂痕。这不仅仅是几台机器的买卖问题，更是大国科技竞争进入深水区的标志。对于中国半导体产业，短期阵痛不可避免，成熟制程的产能扩充会面临挑战。
但长期来看，这更加强化了“自主研发、掌握核心”的行业共识。就像ASML高管所担忧的那样，过度的限制最终可能事与愿违，成为激发对方全力创新的最强催化剂。前方的路不会平坦，但方向已经明确。一边稳住现有产能，保障经济基本盘；一边集中力量，向高端技术发起攻坚。这场关乎未来的科技竞争，结局如何，我们拭目以待。
