日媒分析：EUV用光刻胶仍掌握在我们手中，中国短期内难以替代，更别提超越|euv|中国|人工智能|光刻胶|材料

在全球半导体产业竞争日益白热化的今天，极紫外光刻（EUV）光刻胶已成为决定先进芯片制造成败的核心材料之一。最近，日本媒体、行业机构连发分析，指出这一关键耗材的全球供应格局仍被日、欧美巨头牢牢把控，而中国在这一领域虽有突破，却仍处在追赶轨道上——这既是挑战，也是我们必须迎难而上的动力。

根据多方行业分析，日本企业在光刻胶市场的统治地位无可撼动。日本信越化学、JSR、东京应化等公司占据全球70%以上光刻胶市场份额，而在EUV高端光刻胶领域，市场占有率更是高达95%。

这意味着，在最先进的制程环节，用于3纳米及以下芯片生产的关键材料，绝大多数仍掌握在日本手中。即便在国际供应链紧张之际，日本也曾对出口实施管控措施，给中国芯片制造带来供应压力。

这一事实，表面看似“他人掌耳”，实则是全球科技产业多年技术积累和体系标准共同作用的结果——没有一蹴而就的高端材料革命，但这同样昭示一个真理：站在巨人肩膀上的国家，不会被轻易取代，也不会轻易倒下。

尽管短期内我们还无法抛开国外供应，大量事实表明，中国在光刻胶、尤其是有望用于EUV的材料研发上正在迎头赶上：

行业报告显示，中国EUV光刻胶国产化率已从2021年的不足5%提升至2025年的约22%，中低端光刻胶替代进程明显加快。

多家国内团队在光刻胶材料体系与配方上取得突破。中国科学院科研单位及高校研发的新型光刻胶材料，在线宽控制、灵敏度等关键指标上实现进步，为进一步产业化奠定基础。

中国光刻胶市场整体规模迅速增长，供应链本土化程度逐年提升。随着原材料、光敏剂、树脂等关键环节国产化率稳步上升，我们正在构建更完整、更具韧性的国内生态。

这些成果虽看似青涩，却是在全球科技封锁与竞争压力下诞生的力量。每一个数据背后，是上万科研人员日夜攻关，是国家政策持续支持下的自主创新积累。

诚然，如日本媒体和行业观察者指出，中国短期内难以完全替代进口光刻胶，更别提在EUV光刻胶领域超越日本等老牌领先者。现阶段本土产品仍需在质量、良率、稳定性等方面进行长时间验证与规模应用，这并非一朝一夕可解的难题。

但我们要清晰看到：从无到有，从依赖进口到国产替代突破，这在过去十年里本身就是一场伟大的产业革命；全球供应链正在经历深度重构，中国市场的高速增长和政策支持加速了国产替代的整个生态建立；技术积累不是瞬间成功，而是一个不断试错、迭代与验证的过程。因此，这种“难以取代”的局面不是警告，而是向中国科技人发出的挑战与召唤。

如果说今天全球EUV光刻胶市场还未出现中国品牌的全面领跑者，那正是历史赋予我们的“追赶时刻”——不是简单的模仿，而是系统创新、原始积累和产业链整合的战略机遇期。

中国半导体材料企业正在投入前所未有的研发资源，中国科研团队在创新体系建设上持续突破，中国制造业正逐步从“引进消化”走向“自主创新”，这些都是值得中华儿女自豪的事实。

日媒的分析提醒我们，中国在某些关键高端材料上仍落后于世界领先水平，但差距不是不可逾越的鸿沟，而是动力与方向。中国的速度、中国的韧性、中国的创新力量正在一点一滴积累，一步一个脚印向世界领先者逼近。

当我们以更开放的视野、更坚韧的意志、更持续的创新，投入到光刻胶及整个半导体产业链的建设中时，中国完全有理由相信：有一天，中国的名字将和EUV光刻胶的顶尖技术牢牢联系在一起，那是属于中华科技力量的真正荣光。

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