ASML的2025年财报上，中国市场占比33%的数字还在闪烁，2026年预测曲线却直接砸向20%。从EUV禁运到DUV封锁，再到停止设备维修，五年围堵换来的不是对手倒下，而是一座正在成型的技术孤岛。
曾几何时，美荷两国对中国独立研发的光刻机技术给予了强烈批评，可当一门生意必须靠断绝对手呼吸来维持利润时，它就不再是商业，如今ASML的CEO终于说白了：限制加得越多，反而把别人逼得越发自力更生。
美荷同步发声，批评聚焦核心要点
美国与荷兰的批评发声并非偶然，二者虽立场略有差异，但核心诉求高度一致，均围绕中国光刻机研发的推进表达不满。
美国方面率先表态，称中国独立研发光刻机技术“破坏全球半导体产业规则”，指责中国的研发行为“打破现有技术平衡”，甚至暗示该技术研发可能“威胁相关国家安全”。
荷兰紧随其后，呼应美国的相关言论，其官方及相关企业代表表示，中国光刻机研发“可能影响全球半导体设备市场秩序”，担忧中国技术突破后冲击现有市场格局。
两国发声的时间集中在同一时间段，形成同步批评的态势，言论传播后迅速引发行业内的广泛讨论，也让外界更加关注中国光刻机研发的实际进展。
美国的批评逻辑与背后考量
美国对中国光刻机研发的批评，背后是其对全球半导体技术主导权的维护，核心逻辑围绕技术垄断与产业控制展开。
美国一直占据全球半导体高端技术的领先地位，在光刻机领域，通过扶持本国企业及盟友企业，构建起技术壁垒，掌控着全球高端光刻机的供应与定价权。
中国独立研发光刻机技术，逐步打破了这种技术垄断格局，让美国担心其在半导体领域的主导地位受到冲击，进而影响其全球科技战略布局。
美国在发声批评时，并未提供明确的证据支撑其“安全威胁”的说法，仅以意识形态差异和产业竞争为由，对中国的研发行为进行指责。
此外，美国还通过向荷兰等盟友施压，试图联合限制中国获取相关技术和设备，进一步遏制中国光刻机技术的发展进程。
2025年5月，白宫人工智能事务负责人戴维·萨克斯曾针对荷兰外长访华提及的光刻机相关议题，向荷兰发出警告，强调对中国的EUV光刻设备限制是美国“最重要的出口管制”之一。
荷兰的立场：平衡利益与外部压力
荷兰作为全球高端光刻机的主要生产国，其阿斯麦公司在全球光刻机市场占据主导地位，其对中国的批评，更多是平衡自身利益与美国压力的结果。
荷兰的光刻机产业高度依赖全球市场，中国是其重要的市场之一，近年来中国大陆已成为阿斯麦的最大市场，双方存在深厚的商业合作基础。
但在美国的持续施压下，荷兰不得不做出妥协，一方面呼应美国的批评言论，另一方面逐步收紧对华光刻机出口限制，尤其是先进的EUV光刻机出口。
荷兰官方表示，其批评中国光刻机研发，是担心“技术扩散”影响自身产业优势，同时也是为了回应美国的施压，维护与美国的盟友关系。
阿斯麦现任CEO富凯曾表示，西方需要在对华技术出口限制上找到平衡点，中国绝不会接受技术“卡脖子”，自主研发是必然趋势。
此前，阿斯麦首席执行官彼得·温宁克也曾多次表示不支持美国对中国的芯片限制，抱怨“在美国的压力下，我们放弃的已经够多了”。
中国光刻机研发的背景与进展
中国之所以全力推进光刻机自主研发，核心原因是外部技术封锁带来的产业困境，长期以来，中国芯片制造企业依赖进口光刻机，面临诸多限制。
在高端光刻机领域，中国曾长期无法获得荷兰阿斯麦的EUV光刻机，美国通过施压荷兰，阻止该设备对华出口，导致中国高端芯片制造面临“卡脖子”难题。
为打破这一困境，中国相关企业和科研机构加大研发投入，逐步攻克光刻机研发中的核心技术难题，从低端光刻机入手，逐步向中高端领域突破。
经过多年努力，中国已实现中低端光刻机的自主生产，能够满足部分芯片制造企业的需求，在高端光刻机领域也取得了阶段性进展。
中国的研发过程完全遵循国际规则，基于自身产业发展需求，通过自主创新实现技术突破，并未涉及所谓的“技术窃取”或“规则破坏”。
2024年1月，中方曾就美国强推“光刻机禁令”严正表态，反对美国泛化国家安全概念，以各种借口胁迫其他国家搞对华科技封锁。
批评背后的全球半导体格局博弈
美荷两国对中国光刻机研发的批评，本质上是全球半导体产业格局博弈的体现，核心是技术主导权与市场控制权的争夺。
全球半导体产业高度全球化，各国分工协作，形成了完整的产业链条，而光刻机作为核心设备，是产业链中的关键环节，直接影响各国在产业中的地位。
美国试图通过维持技术垄断，巩固其在全球半导体产业中的主导地位，遏制中国等新兴国家的产业崛起，确保自身科技优势。
荷兰则在技术优势与市场利益之间寻求平衡，既不想失去中国市场，又难以摆脱美国的压力，只能在双方之间做出妥协。
中国坚持自主研发，不仅是为了摆脱外部技术封锁，更是为了完善自身半导体产业链，提升产业竞争力，推动全球半导体产业的多元化发展。
半导体是高度全球化的产业，在各国经济深度融合的背景下，美方的霸道、霸凌行径严重违背国际贸易规则，破坏全球半导体产业格局。
各方回应与后续发展
针对美荷两国的批评，中国相关部门及企业并未过多回应，而是始终坚持自主研发，稳步推进光刻机技术的突破与完善。
中国一贯主张相互尊重、和平共处，秉持相互尊重主权、互不干涉内政的立场，希望各国在半导体领域开展平等合作，而非搞技术封锁与对抗。
中国驻荷兰使馆曾针对美国驻荷大使的不实指责表示，科技无国界，科技进步依赖各国合作与市场支撑，人为制造壁垒是一条走不通的死胡同。
驻荷兰大使徐宏曾表示，美国向荷兰施压阻止光刻机对华出口，是典型的将商业问题政治化，会对全球半导体行业发展带来不良影响。
后续，随着中国光刻机技术的不断突破，美荷两国的限制与批评并未停止，美国甚至试图推动扩大对华光刻机禁售范围，将DUV光刻机也纳入限制行列。
面对外部压力，中国始终坚持自主创新，不断提升光刻机技术水平，同时积极与其他国家开展合作，推动全球半导体产业的健康发展。
官方信源及链接
1. 中国驻荷兰使馆发言人就美国驻荷大使要求荷兰政府禁止对华出口光刻机发表谈话_人民网
链接：
http://world.people.com.cn/n1/2020/0119/c1002-31552134.html
2. 驻荷兰大使徐宏接受金融日报专访实录 — 中华人民共和国外交部
链接：
https://www.mfa.gov.cn/gjhdq_676201/gj_676203/oz_678770/1206_679234/1206x2_679254/202001/t20200118_9340869.shtml
3. 美施压荷兰打击中国芯片产业，外交部:搞“胁迫外交”又一例证!（环球网国际频道）
链接：
https://world.huanqiu.com/article/48it1izPBpk
