前沿导读
据《环球网》新闻指出，尼康新CEO大村泰弘表示，尼康将会依托成本与性价比优势，在ArF光刻机领域与产业巨头ASML展开竞争，积极拓展全球芯片制造市场。当前尼康已经与美洲、亚洲等地的芯片制造商展开合作洽谈，未来还会推出与ASML技术兼容的光刻机来进一步吸引ASML的客户群体。
抢夺市场
尼康作为上一任光刻机的市场霸主，其技术水平与制造能力虽然没有ASML那么强，但是在国际层面也是少有的顶级工业巨头。
据报道指出，此前尼康DUV光刻机的国际大客户是美国英特尔，但是随后英特尔全面采用ASML制造的光刻机设备，这让尼康的光刻机业务断崖式下跌。
尼康公司在2025年的总营收约为7152亿日元，而营业利润只有24亿日元，同比暴跌93.9%，创下了尼康自1917年创立以来的最差业绩。而拖慢尼康利润的主要业务，就是精密设备部门的光刻机产业。
在半年时间内，尼康总共只卖出了9台光刻机，而且都是成熟设备，在先进制程领域彻底丧失战斗力，其市场份额下降至个位数。
并且尼康此前有多个战略失误，比如过度押注英特尔这一家客户。英特尔不买设备了，尼康根本找不到其他客户，因为其他客户早就买了ASML的设备，被ASML的技术生态给套牢了。
还有就是跟随美国的制裁要求，放弃与中国企业的合作，丢失了中国市场这个最具发展潜力的地区，把自己的潜在客户挡在门外。
对比荷兰的ASML，尼康是典型的垂直整合性企业，从光源到光学镜头，从曝光系统到晶圆台和控制系统，全部采用了尼康自家或者是联合其他日本企业开发的技术，这让尼康光刻机具备很高的自主可控比例。
并且垂直整合的集成化设计带来了系统紧凑、运行经济、潜在成本更低等产业优势，这也是尼康打算用技术成本与ASML竞争的核心理由。
在2026年3月底举办的上海半导体展会上，尼康在自家展台上面高调宣布未来要重点推动中国市场的技术合作。为中国市场的客户提供二手光刻机设备、提供技术维护和升级服务、提供安装搬迁上面的特殊扶持，要联合中国的客户群体一起让尼康的光刻机产业重返巅峰。
在上海展会上面，尼康还公布了一款全新的DUV光刻机NSR-S333F。这款设备是基于尼康浸润式平台打造而来，拥有4nm套刻精度以及每小时300片晶圆的高制造效率，精准切到了中国芯片产业想要扩充芯片产能，但是缺少高水平设备这个关键点。
据尼康CEO制定的发展规划表示，尼康一方面推动NSR-S333F光刻机的出货工作，用这种基于先进技术平台的干式光刻机去高效率制造成熟芯片，另一方面也在研发与ASML主导生态兼容的新款浸润式光刻机，降低客户对设备的转换门槛。
市场机遇
尼康的光刻机业务变得如此颓废，有两个原因。
第一个原因就是错失了浸润式技术的使用，台积电工程师林本坚拿着浸润式技术找寻尼康合作，但是尼康并没有接受，继续走提升镜头素质来缩短DUV波长的路线。于是林本坚找到ASML寻求合作，ASML欣然接受，几年后开发出了浸润式光刻机，将DUV波长缩短至134nm，在技术上面领先尼康。
尽管尼康后来也制造出了浸润式光刻机，但是整个市场几乎已经被ASML所垄断，很少有客户愿意主动购买尼康的设备。
尼康此前还投入超过1000亿日元研发EUV，但是直到2018年都拿不出一台有效的原型机，而这个时候ASML的EUV都进入规模化阶段了，尼康无力再继续进行研发，最终宣告失败。
第二个原因，就是尼康跟随美国的制裁要求，对中国市场“说不”。
相比尼康错失先进技术的发展机会，不与中国市场合作才是其最大的问题。现如今尼康意识到了问题，主动要求对中国客户进行特殊的政策扶持，以便获得中国企业的青睐，依靠中国客户来拯救其惨淡的业务经济。
如果要是放在过去，尤其是在中国企业没有掌握7nm制造技术的情况下，尼康的光刻机还是有吸引力的。但是如今中国企业掌握了7nm制造技术，并且国产的浸润式光刻机也进入到了测试阶段，就算尼康的设备在价格上面更具优势，中国企业也会将首要的设备目标放在国产设备上。
