据媒体报道，中国已开始生产自主研发的浸没式深紫外光刻机（DUV）。在美国考虑进一步收紧对外国光刻设备向中国出口以及在华维修服务的限制之际，这项技术可能为中国晶片制造商提供关键设备的替代来源。
路透社据美国科技媒体《The Information》报道，国产光刻机设备预计将在今年内交付给中国主要晶片制造商，包括中芯国际、华虹半导体和长鑫存储。知情人士没有透露这家获得国家支持的制造商身份。
报道指出，这类晶片制造关键设备长期以来由荷兰供应商阿斯麦（ASML）主导。这一突破最终可能对阿斯麦在中国市场的地位构成挑战，但国产设备目前在性能和可靠性方面仍有差距，在实现量产前还需进一步测试，因此阿斯麦现阶段仍保持优势。
报道称，中国国产DUV的初期产量将较为有限，预计今年生产约五台DUV光刻机，2027年产量约为20台。
浸没式DUV光刻机用于在硅晶圆上印制电路图形。在相关限制使中国晶片制造商无法获得更为复杂、适用于更先进制程的极紫外光刻机（EUV）后，浸没式DUV成为中国晶片制造商目前能够使用的最先进光刻设备。
2019年，荷兰政府没有续发阿斯麦向中国出口EUV光刻机所需的许可证，相关设备最终没有交付。此后，阿斯麦一直没有向中国客户交付过EUV光刻机。自2023年起，获取最先进浸没式DUV光刻机也受到越来越严格的限制，但较旧或较低端的DUV设备并未全部被禁。
《金融时报》去年9月曾报道，中芯国际测试的国产浸没式DUV光刻机来自上海企业宇量昇。
报道同时指出，宇量昇与深圳国资控股的新凯来存在资本或项目联系，所以外界有时会把它称为“新凯来系”光刻机。该设备当时仍处于测试、调校阶段，目标是在2027年前后具备商业量产条件。
有关中国开始生产DUV光刻机的报道，让荷兰光刻机巨企阿斯麦的股价受挫。受半导体股领跌影响，日韩股市也下挫。
据彭博社报道，此前有报道称，一家中国国资背景企业已开始量产特定晶片制造设备，将对荷兰光刻机巨企阿斯麦的销售构成潜在威胁。此消息出街后， 阿斯麦股价跌至6月初以来的最低水平。
美国科技媒体《The Information》7月27日引述知情人士称，一家总部位于上海的公司已开始生产浸没式深紫外(DUV)光刻机。报道未公布这家公司名字，但所筹建的研发团队来自包括上海宇量昇等中企。
阿姆斯特丹市场7月27日整个上午均处于上涨状态，但阿斯麦的股价下滑8.3%。在欧美的其他同行的股价也受上述消息的影响。荷兰ASM国际股价下跌7.3%，荷兰贝西半导体股价下挫9.9%，美国应用材料公司股价下滑6.7%，美国泛林集团股价则跌了7.9%。
在半导体股领跌的情况下，日韩股市7月28日也遭遇重挫。日本日经225指数一度下跌4%，跌至自5月22日以来的最低水平。韩国Kospi一度重挫7.6%，创下4月20日以来的最低水平。
东京威力科创、铠侠、三星电子和SK海力士等半导体设备类股领跌。SK海力士一度下跌30%，创最大纪录跌幅；铠侠一度下跌18%，创去年11月以来最大跌幅。
美国媒体The Information引述知情人士报道，荷兰光刻机巨头阿斯麦计划上调部分晶片制造设备售价，可能因此与最大客户台积电产生矛盾。报道称，台积电已开始抵制这家荷兰设备制造商的涨价计划。阿斯麦和台积电发言人暂未回应彭博社的置评请求。
阿斯麦生产制造先进半导体所必备的尖端极紫外光（EUV）光刻机。得益于人工智能（AI）热潮，市场对EUV光刻机的需求持续激增。彭博社报道，加拿大皇家银行资本市场分析师7月13日在报告中表示，包括台积电、三星电子、SK海力士在内的客户业绩强劲，当前环境“具备涨价条件”。
阿斯麦首席财务官戴厚杰（Roger Dassen）7月15日在业绩电话会上也提及，公司可能上调性能较低的低数值孔径EUV光刻机价格。他说：“我们在持续提升低数值孔径EUV光刻机的生产效率，这自然为未来进一步提高价格提供了相当大的空间。”他补充称，由于设备订单交付周期较长，任何价格调整都不会“立即反映到定价上”。
阿斯麦还表示，其客户英特尔已开始使用公司最先进的光刻机生产晶片。阿斯麦首席执行官富凯（Christophe Fouquet）表示，这表明该设备具备商业化应用前景。此前，台积电曾表示，这款设备单价超过3亿5000万欧元，成本过高，不适合用于量产，目前仅用于研发。
阿斯麦今年第二次上调全年销售预期，并公布扩大产能计划以满足持续增长的设备需求。公司星期三在声明中表示，今年净销售额预计将达到430亿至450亿欧元，明显高于彭博汇总分析师393亿欧元的平均预期。
