据国际新闻评论员陈菲发布的内容指出，荷兰时报（NL Times）表示美国正推动一项法案（match法案），迫使荷兰禁止向中国出售和维修所有剩余的ASML光刻机，并为此设置了150天合规期限，同时以域外制裁作为筹码。
荷兰贸易大臣称强制合作的行为“不可取”，并且已经对相关部门展开游说反对该法案，但荷兰消息人士表示其法案被阻止的可能性微乎其微。ASML严重依赖美国供应商，所以这限制了其反击的空间。
反击空间
“依赖于美国供应商，限制了荷兰以及ASML的反击空间”，这句话一针见血的指出了当前荷兰半导体产业所处于的被动局面。
ASML是整个欧洲的“明星企业”和最具价值的上市公司，并且也是全球营收规模排名第一的半导体设备企业。但是在这个光环下隐藏的并不是ASML雄厚的技术实力，而是建立在美国供应链体系下的组装公司。
早期的ASML技术实力并不强，完全没有跟美日企业在光刻机领域竞争的机会。但是由于尼康在光刻机157nm波长上面的投资规模庞大，不愿采用台积电工程师林本坚开发的浸润式技术，这让ASML有了可乘之机。
台积电联合ASML开发了浸润式DUV光刻机，将193nm的光刻机波长缩短至134nm，直接在硬件层面超越了尼康，奠定了ASML在浸润式领域的领先地位。在开发浸润式DUV的同时，ASML还承担着EUV光刻机的制造项目。
该项目最早由美国能源部和英特尔牵头，成立EUV LLC技术联盟，试图探寻用极紫外光制造芯片的方法，ASML在其中承担着最终设备制造的角色。
为了强化供应链合作，ASML在2001年全资收购了美国SVG（硅谷集团），将美国光刻机技术纳入麾下。随后又在2013年全资收购了美国Cymer（西盟）公司，该公司是ASML光刻机激发光源的供应商。
这几轮大规模合作及收购计划，让ASML站在了以美国科技产业链为首的“战舰”上，也为后续美国对光刻机实施出口管制埋下了“雷区”。
光刻机说得再神乎其神，其本质上还是脱离不了工业设备这个范畴。工业设备是一个应用场景有限的品类，而光刻机的应用场景就是制造半导体产品，除此之外并无任何用处。
我国是制造业大国，同时也是成熟芯片的制造业大国，并且其成熟芯片产能已经位居世界前列水平。
如果只是说美国禁止ASML向中国企业交付制造先进芯片的EUV设备，那么这对于ASML来说是损失了少数中国客户。如果连同制造成熟芯片的DUV设备也一并封锁，那么ASML的中国大陆市场业务基本可以算清零了。
2025年中国区业务占ASML总销售的33%，据ASML公司预估，2026年的中国业务占比将会下滑至20%左右。
EUV光刻机早已经被美国强行管控，ASML中国区业务只剩下与DUV和测量设备有关的项目，这也是ASML在中国市场获得收入的主要来源。
禁止ASML继续为中国市场的光刻机设备提供所需的技术维护服务，这不但违背了商业契约，更是对中国半导体产业的不尊重。
技术替代
match法案禁止ASML继续为中国客户提供所需的光刻机设备，并且要求其停止对已有设备的技术维护工作。
这样一般会造成两个可能，一个是ASML将中国市场让给日本企业这种第二强的光刻机供应商，另一个则是中国企业完成自主设备的量产制造，用国产设备来替换掉进口设备，在芯片制造上实现进一步自立自强。
先来看第一个可能性，尼康已经率先进行表态，其中国分公司在参加2026年上海半导体展会时就公开表示，未来尼康的精密机械业务（光刻机业务）要深耕中国市场，为中国客户提供新设备销售、二手设备转售、技术升级服务、安装搬迁等一系列政策扶持。
虽然尼康光刻机的市场份额远不如ASML高，但是尼康的技术底蕴比较深厚，而且也在后来推出了浸润式DUV光刻机，具备制造14nm及以下芯片的能力。
ASML DUV光刻机的在华运营受到影响，确实给了尼康光刻机切入中国市场的机会。
但是以目前的情况来看，中国研发自主设备来实现国产替代的可能性要更大。
就算能买到尼康的光刻机，但是其本质上还是国外的技术设备，与ASML的光刻机属于一个类型的产品，只不过双方的设备性能有所差异。
而自主研发的制造设备就不一样了，其本质上属于高度自主可控的产品，可以最大限度保证产品的使用安全，避免出现在某个环节被“卡脖子”的困境。
本身我国的芯片制造业正处于快速发展阶段，成熟芯片的产量较多，先进芯片正处于向下探索的阶段，将浸润式DUV光刻机实现自主可控的重要性不言而喻。
此前ASML的设备已经深入中国半导体产业，实现国产替代的难度极高。可一旦因为外部因素导致ASML设备无法进入中国市场，或者说中国企业被迫放弃ASML的设备，那么开发国产设备是最具可靠的方案。
