【晶瑞股份回复关注函：拟购入光刻机可用于研发最高分辨率达28nm的高端光刻胶】晶瑞股份公告，公司回复关注函，本次购买光刻机设备的具体用途：本次拟购买的光刻机设备将用于公司集成电路制造用高端光刻胶研发项目，将有助于公司将光刻胶产品序列实现到ArF光刻胶的跨越，并最终实现应用于12英寸芯片制造的战略布局。公司本次拟购买光刻机设备的型号为ASML XT 1900Gi，为ArF浸入式光刻机，可用于研发最高分辨率达28nm的高端光刻胶。预计设备2021年上半年内完成运输并安装完毕。