2019年5月，因为美国单方面与华为的针锋相对，国内智能手机领域一片哗然，而2020年5月，美国再次不甘寂寞地出手，直接宣布要对华为进行更严厉的一轮芯片封锁。一时间，关于华为未来的7nm和5nm芯片到底何去何从的问题，引发了无数业内人士的探讨。
放眼如今的中国芯片市场，内地在芯片代工领域表现最为出色的莫过于中芯国际，但中芯国际目前却只达到量产14nm芯片的层次而已。在5月26日前后，中芯国际宣布火速量产14nm芯片的同时，7nm芯片的研发却因为高端光科技的缺席而进度缓慢。
这点也是无可厚非。毕竟高端光刻机在高精度芯片的研发和量产过程扮演着重要的角色。高精度的光刻机，不仅能保证芯片的良品率，同时也能极大简化芯片研制过程中遇到的各种繁琐操作。中芯国际的工作人员便曾透露，高端光科技的缺乏，让原本台积电只需要一步就能完成的操作，中芯国际却要三步甚至四步。
那么是否买到了高端光刻机，就一定能造得出7nm芯片？其实不然，在7nm芯片的研发生产过程中，中芯国际和国内所有芯片厂商，还有一个重要环节急需解决。这一环节便是芯片设计过程中所要用到的EDA软件。
EDA软件对芯片设计到底有多重要？举个例子，对于系统厂商而言，如果说芯片是子弹的话，那么芯片EDA软件便是制造子弹的工具。而目前市面上的EDA市场，却是被美国公司垄断。仅是Synopsys、Cadence和Mentor三家公司，便垄断了国内芯片设计市场95%的份额。
因此，虽然EDA在整个集成电路产业链条中占据十分重要的地位，但是在中国，EDA却成为国内集成电路的一大短板。而鉴于此次美国对华为的出口管制中，EDA软件同样被美国纳入其中，所以EDA软件，同样有可能成为继高端光刻机之后，国内以中芯国际为首的一众芯片厂商将会面临的又一大难题。
此外，在制造的过程中，蚀刻机的重要性虽然没有光刻机那么强，但是同样关键。精度越高的半导体芯片，对于光刻机和蚀刻机的品质要求也就越高。不过值得庆幸的是，相比于高端光刻机的获取难度，高端蚀刻机就要轻松不少了。
所以对于目前国内芯片行业而言，最亟待解决的问题莫过于高端光刻机和EDA软件。只有同时具备此二者，国产芯片才有迈向7nm、5nm甚至更高的2nm的一天。
文/潇潇 审核/子扬 校正/知秋
热门跟贴