美国制造业复兴计划，的确存在。但当下，遭遇了前所未有的困难。中国制造业呢？正在克服困难，挑起中国经济的大梁。昨天，我国半导体设备企业中微公司，起诉了美国国防部，对美国无端打压表示抗议。
1/制造业，挑起中国经济大梁
2024 年上半年，中国经济呈现出一定的特点，虽内需不足，国内经济困难，但出口数据很漂亮！
在主要装备行业中，电子和汽车行业增长迅速，增速分别为 13.3%、9.8%，两个行业对上半年全部规模以上工业增长的贡献率接近三成。
根据海关总署的最新数据，2024 年 1-6 月，家电产品累计出口 214,024 万台，同比增长 24.9%，芯片出口达到了 5427 亿元，同比增幅 25.6%。新能源汽车出口 60.5 万辆，同比增长 13.2%。
今年以来，制造业投资维持高位，领跑三大投资板块。1月-6月，制造业投资同比增长9.5%，增速比全部投资高5.6个百分点；对全部投资增长的贡献率为57.5%，比一季度提高5.2个百分点。
制造业是新质生产力发展的主阵地。当前，中国制造业向“新”向“绿”的转型升级态势明显。7月，高技术产业投资同比增长10.4%，其中高技术制造业和高技术服务业投资分别增长9.7%、11.9%。高技术制造业中，航空、航天器及设备制造业，计算机及办公设备制造业投资分别增长37.7%、10.8%。高技术服务业中，专业技术服务业、电子商务服务业投资分别增长25.4%、17.9%。
制造业投资快速增长的原因主要包括：大规模设备更新政策的实施，持续释放技改投资需求，拉动效应加大，其中设备工器具购置投资同比增长 17.3%，制造业技术改造投资增长 10.0%；结构不断优化，高技术产业投资成为关注对象，上半年高技术产业投资同比累计增长 10.6%；金融支持力度加大，6 月末制造业中长期贷款同比增长 18.1%，明显快于贷款平均增长水平；民间投资也有所改善，上半年民间固定资产投资累计增长 0.1%。
当前经济运行中仍存在一些问题，例如国内有效需求不足，部分行业企业面临去库存和盈利压力等。但随着外需回暖、新动能培育、政策支撑以及国内需求的逐步改善，制造业有望继续保持良好发展态势，为中国经济挑起大梁。
2/中微公司，起诉美国国防部
2024 年 8 月 16 日，国产半导体设备大厂、刻蚀设备龙头企业中微公司宣布，已向美国法院正式提交诉状，起诉美国国防部将其列入中国军事企业清单的决定。
2024 年 1 月 31 日（美国东部时间），美国国防部根据《2021 财年国防授权法案》第 1260H 条，将中微公司列入 CMC 清单。此前在 2021 年 1 月 14 日，美国国防部也曾将中微公司列入涉军企业的 CMC 清单，不过在其提出申诉并提供充分证据后，于同年 6 月 3 日成功被移除。而此次美2024 年 国国防部再次将中微公司列入 CMC 清单。直接原因是，中微公司曾在 2019 年获得了由中国工信部参与颁发的刻蚀机系列产品 “制造业单项冠军产品奖”。
中微公司认为，该奖项只是一项荣誉，并非能够证明企业涉军。美国国防部做法是错误且毫无根据的。自被列入 CMC 清单以来，中微公司积极地同美国国防部进行沟通、澄清事实，提供了充分的证据证明其不符合 CMC 清单的认定标准，并要求将其从清单中移除。然而，截至正式起诉之日，中微公司 仍被列入该清单。
中微公司董事长兼总经理尹志尧称：“我们对美国国防部将中微公司再次列入涉军清单深表震惊。我们相信法院会作出一个公正的裁决，将中微公司从 CMC 清单中移除。同时，我们也愿意继续与美国国防部保持沟通，友好妥善地解决所存在的争议。”
3/美国制造业复兴，遭遇困难！
《财经》8月14日报道，题为“美制造业复兴雄心受挫，40%的大型投资延后或暂停。文章提到，美国各地建造新工厂和扩建现有工厂成为一大景观。根据美国半导体行业协会的数据，到2022年底，美国芯片行业已投入近2000亿美元，在16个州建造和扩建40家工厂，未来将创造4万个就业机会。看来美国制造复兴的雄心挺大！
最新的媒体调查却发现，在投资超过1亿美元的大型项目中，总计投资价值840亿美元的项目被推迟了两个月到数年不等，或被无限期暂停，占大型项目总数的约40%。其中，一些规模最大的项目处于停滞状态，包括意大利能源巨头国家电力公司（ENEL）在俄克拉荷马州的10亿美元太阳能电池板工厂，LG能源解决方案公司在亚利桑那州的23亿美元电池存储设施，以及全球最大锂生产商雅宝（Albemarle）在南卡罗来纳州的13亿美元锂加工厂。
自2020年5月首次宣布赴美设厂以来，台积电已陆续规划在美国亚利桑那州建3座工厂，累计投资高达650亿美元，是美国史上最大的外方直接投资项目。但4年过去了，台积电亚利桑那厂还未产出生产一颗芯片。
台积电美国厂延后的原因很多，包括机台安装困难、熟练劳动力难寻。台积电美国工厂需要建水厂。台积电美国工厂建水厂的成本可能会高出很多。台积电 1 月 12 日举行的财报会议上，CFO 黄仁昭表示，由于劳动力、许可证、职业安全、近年来的 通货膨胀、人员学习曲线等因素，台积电在美国建厂的成本会比在中国台湾高出 4-5 倍。再加上高昂建设成本和运营成本，生产一颗芯片的成本要比台湾高出十几倍。这些成本转嫁到老客户苹果、英伟达、高通身上，能接受吗？还不如从台湾当地拿货便宜。
台湾前“经济部长”尹启铭此前撰文称，台积电赴美投资完全是为了配合美国的政治和经济利益，不仅未能得到应有的协助，反而得如此屈膝卑躬地应对各方索取和强悍态度对待，“不禁要呼吁台积电：该离开美国的时候就离开吧！”
4/加州参议员，警告拜登
在半导体领域，台积电亚利桑那州第二工厂的投产时间由原定的2026年推迟至2027到2028年。英特尔也推迟了作为补贴对象的俄亥俄州新工厂项目。半导体相关计划也因技术人员等人才的短缺而停滞不前。
在此背景下，拜登政府推动的供应体系与中国的“脱钩断链”计划可能也面临困难。分析人士认为，《芯片与科学法》和《通胀削减法案》提供的支持不足以支撑美国与中国“断链”。
据路透社 8 月 14 日报道，加州参议员亚历克斯・帕迪拉（Alex Padilla）和众议员佐伊・洛夫格伦（Zoe Lofgren）联合致信拜登内阁的商务部，信中表示：“我们要求你们暂停额外的单边出口管制，直到有充分的理由证明这些管制不会损害美国在先进半导体和半导体制造设备方面的竞争力。”
美国商务部对议员的这一行为颇为震惊，因为这是总统的政策决定，却遭到了议员的质疑。不过商务部表示，已按照流程通知了 拜登，等待他的答复。
报道称，此前拜登政府计划进一步收紧对华芯片出口限制，预计将于 8 月颁布新规定，批准美国对其他国家进行 “额外管制计划”，届时中国的芯片如果被其他国家进口，很可能失去和美国做生意的机会。而议员们此次挑战该法案，并非是为了中国考虑，而是在尝试维护自身利益，管制政策损害了不少美国企业的利益，企业向议员施压，且议员的选票和企业挂钩。此外也有评论认为，议员们警告拜登，打压中国的同时不能损害关联方的利益。
5/说一下尹志尧
刻蚀机与光刻机并称为芯片制造的两大核心设备。中微公司在刻蚀机领域取得了显著成就，其产品已应用于全球先进的生产线。
尹志尧 在半导体行业前沿领域是学术精英、技术专家、领军人物。其个人在半导体行业拥有 86 项美国专利和 200 多项各国专利，被誉为 “硅谷最有成就的华人之一”。全世界超过一半的刻蚀设备都有他参与领导和开发的身影。
2024 年 3 月 19 日，中微公司董事长、总经理尹志尧在 2023 年度业绩说明会上表示，中微公司绝大部分刻蚀设备的零部件已实现国产化，并且在很短的时间内将全面实现自主可控。预计在 2024 年三季度末实现 100% 的自主可控。
尹志尧堪称中国半导体领域的泰斗，他的一些观点和言论对于了解光刻机及中国芯片行业的发展具有重要参考价值。尹志尧在近期接受采访时称，基本上在今年夏天左右，中国芯片将实现全产业链的完全自主可控，这也意味着包括光刻机等半导体设备以及光刻胶等半导体材料，我国都已经可以自主化。
他还提到在半导体设备方面，目前暂时没有看到什么发展瓶颈，接下来中国芯在光刻机等领域的技术水平还会有不小的提升和发展。此前也有一些国内的研究院、高校透露出了关于国产 EUV 光刻机核心零部件技术突破的相关消息。尹志尧认为，国产光刻机在离子注入和电子束领域仍存在短板，有待补齐。
尹志尧，1944 年出生于北京。1967 年，尹志尧毕业于中国科技大学化学物理系，之后在石油化工部和中科院工作，负责催化剂产品的研究。1978 年，他考入北京大学化学系，并于 1980 年获硕士学位。同年，他前往加利福尼亚大学洛杉矶分校留学，仅用三年半时间就获得物理化学博士学位。
1984 年获博士后，尹志尧进入 英特尔 研发中心应用开发部，参与关键半导体设备的研发。1986 年，他加入 Lam 公司，主导研发了彩虹号 氧化物 刻蚀机。1991 年，他加入应用材料公司的等离子刻蚀事业群。2000 年，他成为该事业群总经理，负责 16 亿美元的生意。在硅谷工作的二十年里，他参与并领导了国际几代等离子体刻蚀机的研发，成为微观设备领域的 “最强大脑” 之一。
尽管在国外有着优越的生活和辉煌的成就，但尹志尧心中的爱国情怀始终炽热。2004 年，已经 60 岁的他，在时任上海市经委主任江上舟的邀请下，毅然回国创业。面对 江上舟“我们能不能自己把刻蚀机造出来” 的询问，以及 “哪怕豁出命去，也要为国家造出刻蚀机” 的决心，他带着 15 人专业团队回到上海，创办了中微半导体设备公司并担任董事长兼总裁，主攻薄膜制造设备与等离子体刻蚀设备。
中微开发出的生产 7nm 到 5 纳米器件的设备，已与世界最前沿技术比肩。中微的等离子体刻蚀设备应用于国际先进的 14 纳米、7 纳米和 5 纳米生产线，短时间内就让我国突破了国际刻蚀机的技术垄断。
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