浅谈半导体清洗设备|清洗液|清洗设备|滤芯

一、半导体清洗设备简介

半导体清洗设备是半导体制造过程中的关键设备，其主要功能是去除硅片制造、晶圆制造和封装测试过程中可能存在的各种杂质，如颗粒、自然氧化层、金属污染、有机物、牺牲层、抛光残留物等，以避免这些杂质影响芯片的良率和产品性能。随着半导体制造工艺技术的不断提升，芯片尺寸不断缩小，对杂质敏感度提升，清洗步骤也在不断增加，90nm的芯片清洗工艺约90道，20nm的清洗工艺则达到了215道，目前清洗步骤占整个半导体工艺所有步骤约1/3，几乎所有制作过程前后都需要清洗，为清洗设备带来了广阔的增长空间。

二、中国半导体清洗设备行业发展现状

随着国内企业核心技术和工艺能力的提升，以及在客户认证方面的不断进展，未来刻蚀、清洗设备有望成为显着受益国内市场需求发展的赛道，成为半导体设备行业国产替代的先锋。中国大陆半导体设备销售额前五大厂商为北方华创、中微公司、盛美上海、长川科技、新益昌，清洗设备厂商主要有盛美上海、北方华创、芯源微、至纯科技和提牛科技等，产业集中度较高。数据显示，2023年国内半导体清洗设备行业市场规模约为18亿美元。

三、半导体清洗设备行业分类

目前主流的湿法清洗设备主要包括单片清洗设备、槽式清洗设备、批发螺旋喷淋清洗设备以及组合式清洗设备等，其中单片清洗设备因其高效率和适应先进工艺的能力而占据市场主导地位，而槽式清洗和批式旋转喷淋清洗设备则以其成本效益和适合大批量生产的特点在市场中占有一席之地，组合式清洗设备则结合了单片和槽式清洗的优势，满足了市场对高效率和高灵活性的双重需求。