近日，三星举行了NRD-K工具入库仪式，宣布新的半导体研发综合体走到关键里程碑，标志着迈向未来的重大飞跃。这次活动大约有100名嘉宾参加，包括来自供应商和客户的代表出席了庆祝活动。

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NRD-K作为三星最先进的半导体设施之一，于2022年破土动工，位于韩国京畿道龙仁器兴园区，属于三星存储器、系统LSI和代工半导体研发的关键研究基地，是占地约109,000平方米的综合体。凭借其先进的基础设施，能够将研究和产品级验证在同一屋檐下进行。三星计划到2030年投资约20万亿韩元（约合142.36亿美元/人民币1032亿元），其中包括一条研发专用线路，预计将于2025年中旬开始运营。

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三星电子副董事长兼DS部门负责人全永铉在活动上表示：“NRD-K将加快我们的开发速度，使公司能够创造一个良性循环，以加速下一代技术的基础研究和大规模生产。我们将在三星电子50年半导体历史为起点，为实现新的飞跃奠定基础，并为下一个100年创造新的未来。”

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据了解，NRD-K将导入ASML的High-NA EUV光刻机和新材料沉积设备等一系列最先进的半导体生产工具，旨在加速下一代存储半导体的开发，包括3D DRAM、超过1000层的V-NAND闪存等，还将建设具有创新wafer-to-wafer bonding能力的晶圆键合基础设施。